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磁控溅射法制备薄膜原理
磁控溅射原理
答:
磁控溅射原理如下:磁控溅射是一种常用的物理气相沉积(PVD)的方法
,具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好,成分接近靶材成分等众多优点。传统的溅射技术的工作原理是:在高真空的条件下,入射离子(Ar+)在电场的作用下轰击靶材,使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面,沉积在...
磁控溅射原理
答:
磁控溅射的基本原理是利用 Ar一O2混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面
,能量交换后,靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜。1、磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多...
什么叫
磁控溅射
工艺
答:
磁控溅射工艺是一种表面处理技术
,通过先将目标材料置于真空室内,然后使用高能离子轰击目标材料,使其表面部分被剥离出来,并在真空中形成薄膜沉积在基材上。这个过程中,磁场被用来控制离子轰击目标材料的方向和速度,以获得所需的薄膜沉积效果。磁控溅射工艺通常应用于表面涂层、光学膜、金属薄膜等领域。
磁控溅射
的
原理
是什么?
答:
磁控溅射就是在真空中,
用电场和磁场的帮助,把一种材料的小颗粒从靶材上“射”到基底上,形成一层薄薄的涂层
。这个方法既高效又能控制涂层的质量。1. 基本原理:- 首先,你得有一个真空室,因为磁控溅射是在真空环境下进行的。- 然后,你把要涂层的材料(称为靶材)和要涂上材料的物体(称为基底...
用
磁控溅射
技术怎样
制备
绝缘材料的
薄膜
答:
一般
磁控溅射方法制备
绝缘材料的
薄膜
有两种方法:PVD(物理气象沉积)、CVD(化学气象沉积)。物理气象沉积,用陶瓷靶(绝缘靶)溅射,缺点是溅射速率慢,溅射功率高,靶材容易破裂。化学气象沉积,用活泼金属靶(Al),在溅射过程中充入适量的反应气体(N2)。使铝原子在沉积过程中被氧化成氮化铝。调节氮气...
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作
原理
是什么?
答:
1. 直流
磁控溅射
:直流磁控溅射是最基本的磁控溅射方式。其工作
原理
是,利用直流电源对靶材加正电压,产生离子轰击,同时在靶材表面施加磁场进行引导,使得离子轰击靶材表面时产生的原子或分子向衬底沉积。这种技术适合
制备
金属
薄膜
和多元化合物薄膜。2. 射频磁控溅射:射频磁控溅射是利用高频交流电源产生电场,...
磁控溅射
镀膜
原理
答:
磁控溅射
的工作
原理
是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar正离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成
薄膜
,而产生的二次电子会受到电场和...
什么是
磁控溅射
答:
磁控溅射
的工作
原理
是通过在真空环境中引入氩气(Ar)等惰性气体,并在阴极和阳极之间施加电压,使气体发生电离,产生辉光放电。电离产生的氩离子在电场作用下加速飞向阴极,并以高能量撞击阴极靶材,使靶材表面的原子被撞击出来,沉积在基片上形成
薄膜
。同时,磁场的作用使电子在靶材表面附近形成螺旋运动,增加...
怎样通过低
溅射
电压
制备
ITO
薄膜
?工艺和
方法
是什么?
答:
1、低电压溅射制备ITO
薄膜
由于ITO薄膜本身含有氧元素,
磁控溅射制备
ITO薄膜的过程中,会产生大量的氧负离子,氧负离子在电场的作用下以一定的粒子能量会轰击到所沉积的ITO薄膜表面,使ITO薄膜的结晶结构和晶体状态造成结构缺陷.溅射的电压越大,氧负离子轰击膜层表面的能量也越大,那么造成这种结构缺陷的几率就...
射频
磁控溅射原理
答:
射频
磁控溅射制备薄膜
是一种很成熟的技术,起源于上世纪70年代。通俗的讲就是在真空的状态下,将要溅射的元件等离子化,然后把这种等离子的类气体涂在薄膜上。也可以把坚硬的物资涂到柔性物体上去。这些书只有到科技书店才找到了。
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