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磁控溅射法的原理
磁控溅射
镀膜机的工作
原理是什么
?
答:
磁控溅射原理
:
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片
。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子...
磁控溅射原理
答:
磁控溅射原理:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面
,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时镀膜、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正离...
磁控溅射原理
答:
磁控溅射原理如下:磁控溅射是一种常用的物理气相沉积(PVD)的方法
,具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好,成分接近靶材成分等众多优点。传统的溅射技术的工作原理是:在高真空的条件下,入射离子(Ar+)在电场的作用下轰击靶材,使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面,沉积在...
磁控溅射的原理
答:
磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子
;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和...
磁控溅射的原理
是什么?
答:
磁控溅射
就是在真空中,用电场和磁场的帮助,把一种材料的小颗粒从靶材上“射”到基底上,形成一层薄薄的涂层。这个
方法
既高效又能控制涂层的质量。1. 基本
原理
:- 首先,你得有一个真空室,因为磁控溅射是在真空环境下进行的。- 然后,你把要涂层的材料(称为靶材)和要涂上材料的物体(称为基底...
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作
原理是什么
?
答:
1. 直流
磁控溅射
:直流磁控溅射是最基本的磁控溅射方式。其工作
原理
是,利用直流电源对靶材加正电压,产生离子轰击,同时在靶材表面施加磁场进行引导,使得离子轰击靶材表面时产生的原子或分子向衬底沉积。这种技术适合制备金属薄膜和多元化合物薄膜。2. 射频磁控溅射:射频磁控溅射是利用高频交流电源产生电场,...
什么是
溅射法
答:
目前最常用的制备CoPt 磁性薄膜的方法是
磁控溅射法
。磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气,在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁) 之间施加几百K 直流电压,在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电,使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。...
什么是
磁控溅射
答:
磁控溅射的工作原理
是通过在真空环境中引入氩气(Ar)等惰性气体,并在阴极和阳极之间施加电压,使气体发生电离,产生辉光放电。电离产生的氩离子在电场作用下加速飞向阴极,并以高能量撞击阴极靶材,使靶材表面的原子被撞击出来,沉积在基片上形成薄膜。同时,磁场的作用使电子在靶材表面附近形成螺旋运动,增加...
磁控溅射
镀膜设备的工作
原理是什么
?
答:
磁控溅射
镀膜设备的基本
原理
是通过磁场使电子运动的方向改变,通过对电子的运动路径的延长及区域范围束缚,来增加电子的电离概率,更好地使电子的能量利用更有效,这便是磁控溅射技术的"高速"和"低温"的特性机理.设备始于1974年时J. chapin的研发成果,当时磁控溅射镀膜设备一经研发,其相较于别的镀膜工艺显得...
磁控溅射原理
及应用 参考资料
答:
1985 年,Window 和Savvides首先引入了非平衡
磁控溅射的
概念。不久,多种不同形式的非平衡磁场设计相继出现,磁场有边缘强,也有中部强,导致溅射靶表面磁场的“非平衡”。磁控溅射靶的非平衡磁场不仅有通过改变内外磁体的大小和强度的永磁体获得,也有由两组电磁线圈产生,或采用电磁线圈与永磁体混合结构,...
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