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磁控溅射镀膜原理及特点
磁控溅射原理
答:
磁控溅射是一种常用的物理气相沉积(PVD)的方法,
具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好,成分接近靶材成分等众多优点
。传统的溅射技术的工作原理是:在高真空的条件下,入射离子(Ar+)在电场的作用下轰击靶材,使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面,沉积在基片表面形成薄膜。
磁控溅射原理
答:
磁控溅射的
基本
原理
是利用 Ar一O2混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面,能量交换后,靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜。1、磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多...
磁控溅射
膜是什么意思?金属膜都是采用磁控溅射技术吗?
答:
1、磁控溅射隔热膜又称磁控溅射金属膜,
采用多层磁控溅射工艺打造而成,以持久反射隔热的出色性能而著称
。由于其高清晰、高隔热、高稳定、低内反光、色泽纯正、永不退色、使用寿命长等众多特点,一度被广泛用于汽车玻璃贴膜、建筑玻璃贴膜。2、磁控溅射技术在薄膜制造领域中的应用十分广泛,可以制造工业上所...
磁控溅射镀膜
问题
答:
原理上讲,两点:气场和磁场 磁控溅射在0.4Pa的气压情况下离子撞击靶材,
溅射出粒子沉积到基材上,整体靶材的电压几乎一致,不影响溅射速率
。0.4Pa的气场情况是溅射速率最高的情况,气场变化,压强变大和变小都会影响溅射速率。磁场大,束缚的自由电子增多,溅射速率增大,磁场小,束缚的自由电子就少,...
磁控溅射原理
答:
磁控溅射原理
:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时
镀膜
、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正...
磁控溅射镀膜
设备的工作
原理
是什么?
答:
磁控溅射镀膜
设备的基本
原理
是通过磁场使电子运动的方向改变,通过对电子的运动路径的延长及区域范围束缚,来增加电子的电离概率,更好地使电子的能量利用更有效,这便是磁控溅射技术的"高速"和"低温"
的特性
机理.设备始于1974年时J. chapin的研发成果,当时磁控溅射镀膜设备一经研发,其相较于别的镀膜工艺显得...
磁控溅射镀膜
如何解决曲面镀膜的不均匀性问题?
答:
磁控溅射
法是指电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子...
磁控溅射
法
的
优势
特点
答:
通过调节磁场和电源参数,可以精确控制薄膜的厚度和其他
特性
。适应性强:适用于多种材料,无论是金属、陶瓷还是塑料,都可以用
磁控溅射
法制备薄膜。环境友好:相比于一些化学沉积方法,磁控溅射更加环保,没有太多有害化学物质的产生。磁控溅射法在效率、质量、可控性和环境友好性方面都有很大优势。
磁控
真空
镀膜
机
的
概念什么,我要考试,给我个标准一点的答案
答:
造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般金属
镀膜
大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本
的原理
是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面,这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在...
磁控溅射
法
的
优势
特点
答:
目前最常用的制备CoPt磁性薄膜的方法是
磁控溅射
法。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间,便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。磁控溅射法具有
镀膜
层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。
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