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euv离子注入
荷兰解除禁令,向中国出口光刻机,他们是怎么想的呢?
答:
长期以来,由于光刻机的特殊性,中国网民甚至将其视为半导体行业的生命线。但其实光刻机只是芯片生产线的一部分。还是一个制作环节。芯片的生产至少需要七个主要过程,即扩散、光刻、蚀刻、
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、薄膜生长、抛光和金属化。那么每个流程需要多少设备呢?以SMIC 12英寸集成电路为例,我们需要22种扩散设备...
华为麒麟990 5G芯片,含103亿晶体管,引领先进制程的巅峰之作
答:
在洁净的无尘室中,微尘的入侵都可能成为致命的干扰,从晶圆清洗、蚀刻、沉积、光刻到
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,每一个步骤都要求精准无比,只为确保芯片的卓越性能和可靠性。7纳米制程的进步,是芯片技术的里程碑,它将晶体管密度推向极致,赋予了麒麟990 5G强大的性能和低能耗。这种技术的进步不仅提升了芯片的性能,也...
为什么有人说CPU是人造物的巅峰?你知道吗?
答:
CPU生产主要包括硅熔化、提纯、单晶硅制备、硅芯片、磨片、光刻胶应用、紫外线曝光、部分光刻胶溶解、雕刻、光刻胶去除、
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、光刻胶再去除、,绝缘层处理、铜层沉淀、晶体管之间的连接电路构造、晶圆级测试、晶圆芯片、外观检查、芯片加载和封装,等级测试过程繁重,以上所有的步骤对于清洁程度要求都...
芯片产业各环节国产率梳理,我们离芯片完全国产还有多远要走?_百度知 ...
答:
9.光刻机(0%),虽然说目前国产光刻机国产化几乎为0,但是上海微电子已经能量产90nm工艺,28nm的光刻机已经取得进展。但是光刻机是半导体产业链里技术最难的设备,而要达到7nm工艺制程,必须用到
EUV
光刻机,以目前中国的技术而言,未来几年能突破这一技术难点就很不错了。10.ALD、
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(国产率...
芯片巨头中芯国际的深度分析报告
答:
这一步需要的设备主要是氧化炉、光刻机、刻蚀机、CVD、PVD、离子去胶机、
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机等。其中,光刻机自然是关键设备。简单介绍一下光刻机。光刻机目前已经迭代至第五代。第五代极紫外
EUV
光刻机,2010年ASML推出,也是全世界唯一生产EUV光刻机的厂商,采用13.5nm极紫外光(EUV),最小工艺20-7nm...
芯片上有成千上万个晶体管,是怎么安上去的?
答:
光刻机的紫外线要从原来的193nm提升到13.5nm,那就要使用最先进的
EUV
光刻设备进行光刻。 完成后就要用化学物质蚀刻掉多作余的硅体,通过感光产生二氧化硅这种物质,再加入多晶硅基本就可以形成门电路,建立各个晶体管之前的连接。通过这种操作方式,一次可以
注入
大约3000万个晶体管。芯片的体积和功耗要求越来...
中国芯片产业链究竟发展的怎么样?
答:
芯片制造六大设备扩散炉、刻蚀机、
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设备、薄膜沉积设备、抛光机和清洗剂已经达到了世界主流水平,其中部分刻蚀机种类更是达到了5nm,处于世界第一梯队,最头疼的就要属光刻机了,中国光刻机的主要攻坚工作在上海微电子,它们明年才能交付28nm的光刻机。而在EDA上,EDA就是设计芯片的工具,EDA技术就...
南大光电4项业务:MO源、光刻胶、电子特气、ALD前驱体产品
答:
说它是业务有点勉强,它是公司16年和 科技 部签订的一个研究项目“ALD金属有机前驱体产品的开发和安全
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产品开发”。前驱体就是一个东西之前的形态,就像暴龙兽之前是亚古兽,再之前是滚球兽一样,额,这是我的理解。ALD即原子层沉积,前面讲到气相沉积,就相当于给衬底烘一层蒸汽让物质附在...
国内的哪些芯片厂商比较强,谁能发展起来?
答:
北方华创在氧化炉和薄膜沉积设备上成绩不俗,但基本还处于28纳米级别。其他设备,如
离子注入
机、抛光机和清洗机,也差不多。差距最大的是光刻机。目前ASML最先进的
EUV
光刻机,即将投入三星、台积电的7纳米工艺,而国内上海微电子的光刻机,仍停留在90纳米量产的水平。材料方面,日本是全球领先者。反观...
什么是光刻胶以及光刻胶的种类
答:
光刻胶是一种有机化合物,它受紫外光曝光后,在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上,曝光后烘烤成固态。 1、光刻胶的作用: a、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层中; b、在后续工序中,保护下面的材料(刻蚀或
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)。2、光刻胶的物理特性参数: a、...
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