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中国首台5纳米光刻机
光刻机
是干什么用的,工作原理是什么?
答:
用于生产芯片的
光刻机
是
中国
在半导体设备制造上最大的短板,
国内
晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口,本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。二、工作原理 在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将...
一
台机
器卖一亿欧元的荷兰公司是哪一家,为什么这么厉害?
答:
荷兰阿斯麦(ASML)一家200来人的小公司,这是众所周知的生产芯片制造设备——
光刻机
成套设备。这种设备全世界也就仅此一家,一般都是排队预定的。阿斯麦(ASML)产量并不高,年产量也就
5
~6台套设备。由于阿斯麦设备含有部分美国技术,所以美国以此为由打压华为,限制对
中国
出售该设备。 其实,阿斯麦(ASML)发展曾经遇到技术...
中国
芯片技术的“瓶颈”是什么?
答:
前段时间,中芯国际与荷兰阿斯麦公司签订了一笔价值77亿的订单,其中就包括DUV
光刻机
,能够经过多次曝光,制造出7
纳米
芯片。 一旦中芯国际突破了七纳米工艺,就意味着中芯国际实际台积电以及三星之后第三家掌握这项技术的芯片代工企业。 此外,中芯国际拟于深圳扩建产能,生产28纳米及以上集成电路。3月17日,中芯国际...
尼康g4
光刻机
尺寸
答:
尼康G4
光刻机
的投影比例为
5
:1,适合用于5英寸光刻版的加工,其最小线宽可以达到350
纳米
。
5
MEE
光刻机
是多少
纳米
?
答:
亲,您好很高兴为您解答 MEE5
光刻机
的精度为25
纳米
。
操纵原子,重建它们的排列方式,是比
光刻机
还具发展前景的黑科技_百度...
答:
但目前有一个难点是,当硅芯片的加工精度突破
5纳米
后,便已经到达它的物理极限——引发电子的隧穿效应,此时的芯片便会不受控制地产生漏电现象,导致芯片的功耗明显增加。因此,除了撕胶带法和
光刻
技术,我们还需要寻找另外一种制造具备神奇特性新材料的方向:“比如直接操纵原子得到所需的新结构材质。”实际上,我们对单个...
中国
目前
光刻机
处于怎样的水平?为什么短时间内造不出来
答:
目前
我国
能生产
光刻机
的企业有5家,最先进的是上海微电子装备有限公司,光刻机量产的芯片工艺是90纳米,目前正在向65纳米迈进,而国外最先进的是
5纳米
,正在向3纳米迈进,这中间差了整整9个台阶,按每个台阶4~5年的差距,尚需40年的追赶。建议我们国家还是要坚持以经济发展为主,经济投入以基础设施...
不用
光刻机
,如何制造
5
nm芯片?
答:
2、使用中芯国际的N+1代工艺。中芯国际的N+1代工艺可以生产出
5
nm芯片,并且不使用EUV
光刻机
。3、用碳
纳米
管来代替硅晶管。用碳纳米管来代替硅晶管,可以制造出更小、更快的芯片。4、用电子束光刻技术。用电子束光刻技术可以制造出小于5nm的芯片。5、用量子芯片。量子芯片可以制造出小于5nm的...
中国
目前
光刻机
处于怎样的水平?为什么短时间内造不出来?
答:
目前
我国
能生产
光刻机
的企业有5家,最先进的是上海微电子装备有限公司,光刻机量产的芯片工艺是90纳米,目前正在向65纳米迈进,而国外最先进的是
5纳米
,正在向3纳米迈进,这中间差了整整9个台阶,按每个台阶4~5年的差距,尚需40年的追赶。建议我们国家还是要坚持以经济发展为主,经济投入以基础设施...
华为轮值董事长郭平:美国专家将美国带上了错误的道路
答:
而且威廉·巴尔还认为,如果
中国
5G利用市场规模优势领先,那么在美国一直主导的半导体领域也会产生连锁反应。说白了,就是5G可能会影响各个 科技 领域中美国的领先地位,其实就包括半导体,也就是我们常说的芯片、台积电、
光刻机
!上海微电子集团量产的SSB300光刻机(分辨率:800
纳米
)而在讲话中,郭平还...
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