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直流磁控溅射电源价格
溅射
分哪几种?
答:
磁控溅射按照电源的不同,可以分为
直流磁控溅射
(DC)和射频磁控溅射(RF)。顾名思义,直流磁控溅射运用的是
直流电源
,射频磁控溅射运用的是交流电源(射频属于交流范畴,频率是13.56MHz。我们平常的生活中用电频率为50Hz)。两种方式的用途不太一样,直流磁控溅射一般用于导电型(如金属)靶材的溅射,...
什么是
磁控溅射
?
答:
磁控溅射
是一种物理气相沉积(PVD)工艺,属于真空沉积工艺的一种。这个过程需要一个高真空室来为溅射创造一个低压环境。首先将包含等离子体的气体(通常为氩气)进入腔室。在阴极和阳极之间施加高负电压以启动惰性气体的电离。来自等离子体的正氩离子与带负电的靶材碰撞。高能粒子的每次碰撞都会导致目标表面...
直流磁控溅射
与射频磁控溅射区别是什么?
答:
两种方式的不同应用
直流磁控溅射
只能用于导电的靶材(靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材),并不局限于金属。譬如,对于铝靶,它的表面易形成不导电的氧化膜层,造成靶表面电荷积累(靶中毒),严重时
直流溅射
无法进行。这时候,就需要射频
电源
,简单的说,用射频电源的时候,有一小...
磁控溅射
分为哪两大类?
答:
磁控溅射按照电源的不同,可以分为
直流磁控溅射
(DC)和射频磁控溅射(RF)。顾名思义,直流磁控溅射运用的是
直流电源
,射频磁控溅射运用的是交流电源(射频属于交流范畴,频率是13.56MHz。我们平常的生活中用电频率为50Hz)。两种方式的用途不太一样,直流磁控溅射一般用于导电型(如金属)靶材的溅射,...
在真空镀膜(
磁控溅射
)中,脉冲偏压电源为什么比
直流电源
好?
答:
使用
直流电源
,电子方向始终统一,会导致单一种类电荷堆积过高与控制源中和。也就是说用来提供动力的正负极被中和了。然后
磁控溅射
将不再继续。所以采用脉冲电源。真空镀膜简介 真空镀膜一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产...
关于
磁控溅射
的几个问题,谢谢大家了
答:
1.膜层厚度测量问题:如果是纯净的氧化锌,或者说是透明的,就可以用光学方法测量膜层厚度,如果是非透明的,就用台阶仪,这量类的测量厚度的光学仪器不少,我不再细说。需要注意的是选择适当的测量范围的仪器。2.一般
磁控溅射
可以分为直流(二级)溅射、中频、射频。
直流溅射电源
便宜,沉积膜层致密度...
直流溅射
,
直流磁控溅射
,射频磁控溅射有什么区别
答:
20世纪70年代开始发展了
磁控溅射
技术,它的特点是溅射电压大大下降,溅射速率明显提高,另外溅射气压可以较低,通常在0.5Pa。磁控溅射是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法。它是在二极
直流溅射
的基础上,在靶表面附近增加一个磁场。电子由于受电场和磁场的作用,做螺旋运动,大大提高了电子的寿命,增加了...
直流磁控溅射
功率如何计算?电压电流直接相乘,还是跟面积神马的有关?高...
答:
电压电流直接相乘。另外,一般
直流磁控溅射
的
电源
散热量比较大,真正的使用效率只有40%,算是比较好的。国内最好的还是要属珠海的。用电总功率是指的接入电源之前的电压乘电流,外接功率表就好。实际功率为靶材的电压乘电流。并非显示数据。需要实际测量。
真空
磁控溅射
技术的中频孪生靶溅射技术有以下特点:
答:
由于消除了打火现象膜内缺陷比
直流溅射
时低几个数量级;3)膜内应力低,与基体结合力强。由于中频溅射时到达基体的原子能量高于直流溅射,因此沉积时基体温升高,形成的膜较致密;4)连接简单。中频溅射时
电源
与靶的连接比射频(13.56MHz)溅射容易,后者需要复杂的阻抗匹配。脉冲
磁控溅射
是采用脉冲电源或者...
磁控溅射
的种类
答:
用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频
磁控溅射电源
昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而...
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