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磁控溅射镀膜技术原理
磁控溅射镀膜
机导致不均匀因素哪些
答:
原理
上讲,两点:气场和磁场
磁控溅射
在0.4Pa的气压情况下离子撞击靶材,溅射出粒子沉积到基材上,整体靶材的电压几乎一致,不影响溅射速率。0.4Pa的气场情况是溅射速率最高的情况,气场变化,压强变大和变小都会影响溅射速率。磁场大,束缚的自由电子增多,溅射速率增大,磁场小,束缚的自由电子就少,...
汽车贴膜金属
磁控溅射
和陶瓷磁控溅射和真空
镀膜
还有原色本体哪款好...
答:
类似于镜面的高反光,容易造成光污染,有些产品为减少反光;在膜内的胶中掺有染色剂,易老化褪色。二、第四代汽车膜是“金属
磁控溅射
膜”。磁控溅射工艺经历了多种
技术
革新,可将镍、银、钛、金等高级宇航合金材料采用最先进的多腔高速旋转设备,利用电场与磁场
原理
高速度高力量地将金属粒子均匀溅射于...
谁知道
磁控溅射镀膜
时通氩气和氧气的作用各是什么啊?还有就是对这方面...
答:
具体的
原理
请查看“
磁控溅射
”的原理,大概的情况是这样的,氩气是磁控溅射能够产生辉光的工作气体,磁控溅射想工作必须得通入氩气的,而氧气是工艺气体,比如你想镀SiO2,那么你要使用Si靶,然后通入氩气,这时候溅射出来的是Si,而你同时通入氧气的话,那么所
镀膜
层就变为SIO2了,因为SI离子和氧离子...
真空
磁控溅射
为什么必须在真空环境?具体是个什么
原理
?可以不可以用通俗...
答:
溅射
过程是通过电能,使气体的离子(可以理解为为气体颗粒)轰击靶材(一般是金属溅射物),就像砖头砸土墙,土墙的部分原子溅射出来,落在所要
镀膜
的基体上的过程。如果气体太多,气体离子在运行到靶材的过程中,很容易跟路程中的其他气体离子或分子碰撞,这样就不能加速,也溅射不出靶材原子来。所以需要...
阴极溅射与
磁控溅射
又什么区别与联系
答:
磁控溅射
是阴极溅射的一种吧,是利用阴极溅射的
原理
进行
镀膜
。磁控溅射是在二极溅射的基础上,在靶材后面放置磁钢。在与靶阴极电场垂直的方向加一横向的磁场。靶面前的电子受到电磁场洛伦兹力的作用,在靶面附近做螺旋运动,增加碰撞几率。它克服了阴极溅射速率低和由于电子轰击使基片温度升高的致命弱点。
汽车玻璃上涂一层金属膜有什么用
答:
这个是反射作用。涂上金属层的主要原因是通过涂上的金属达到能够反射太阳光不同波段的光波的作用,因为光波是带有能量的,所以最终目的就是反射出去这些能量。您可以仔细看看汽车膜的
技术
,在历史上汽车膜工艺经历了四个阶段:涂布与复合工艺膜、染色膜、真空热蒸发镀膜、真空
磁控溅射镀膜
。汽车膜的技术革命...
磁控溅射
反射功率太大原因
答:
容抗感抗超出范围。
磁控溅射镀膜技术
是物理气相沉积法(PVD)的一种,就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。如出现功率过大的原因就是容抗感抗超出范围,在不同溅射功率下制备涂层测试附着力发现,随着功率的不断增加,附着力越来越好。
磁控溅射
的
技术
分类
答:
当这种碰撞级联到达靶材表面时,如果靠近靶材表面的原子的动能大于表面结合能(对于金属是1-6eV),这些原子就会从靶材表面脱离从而进入真空。
溅射镀膜
就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的
技术
。通常,利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成,基片作为...
磁控溅射镀膜
设备的工作
原理
?? 磁控溅射镀膜设备的真空度不够会有哪 ...
答:
真空度 在通入氩气 等情况下 要保持 一定的 低真空度,但刚开始 必须 抽 高真空 到 10的-6次方。如果 在通入氩气 等情况下 真空度 没有达到
溅射
条件,则不会发生 溅射现象
什么是镀膜玻璃镀膜玻璃
原理镀膜
玻璃一平方多少钱
答:
镀膜玻璃的
原理镀膜
玻璃的生产方法很多,目前常用的有真空磁控溅射法、化学气相沉积法。真空
磁控溅射镀膜
玻璃的原理是利用磁控溅射
技术
将镀膜材料逐层溅射沉积到玻璃表面,形成薄膜。可在白色的玻璃基片上镀出多种颜色,膜层的耐腐蚀和耐磨性能较好,是目前生产和使用最多的方法之一。化学气相沉积法的原理是,...
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