真空离子镀，是不采用溶液或电能液而制备薄膜的一种全新的干式镀膜方法。过去物体表面镀制薄膜作为物体表面改性的手段是采用湿式的电镀发或化学镀法。在电镀法中，被电解的离子镀到作为电解液中另一个电机的被镀件表面上而成膜，因此，其基体必须是良导体，度也难以控制。电镀颜色较单调，一般只有亮银和亚银等少数几种，对于闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等，五花八门的七彩色就无能为力了；而真空电镀可以解决七彩色的问题，可镀金色、红色、蓝色等各种颜色。真空镀膜的附着力（附着强度）好，膜层十分牢固，不易脱落。真空镀膜的膜材和基体材料有广泛的选择性，可制备各种不同的功能性涂层。电镀一般的镀层材质采用“六价铬”，这是非环保材料，无法出口欧美市场，而真空电镀的镀层材质为铝，安全环保，能达到欧美市场的环保监测指标。
水电镀因工艺较简单，从设备到环境得要求均没有真空离子镀苛刻，从而被广泛应用。在很容易找到此类的供应商，而真空电镀优秀供应商国内不是很多，。但水电镀有个弱点，只能镀ABS料和ABS+PC料（此料镀的效果也不是很理想）。而ABS料耐温只有80℃,这使得它的应用范围被限制了。而真空电镀可达200℃左右，这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了。像风嘴、风嘴环使用PC料，这些部件均要求耐130℃的高温。另，一般要求耐高温的部件，做真空电镀都要在最后喷一层UV油，这样使得产品表面即有光泽、有耐高温、同时又保证附着力。
真空镀膜的黏附性比较差，容易脱落，电镀的种类很多，你说的电镀是否是水电镀？ 水电镀的膜厚比真空溅镀的厚，水电镀膜厚一般为15~20UM,真空电镀，的膜厚一般为0.5~2UM.水电镀的化学液不同会有不同的色彩。真空电镀的靶材不同镀膜颜色不同，真空电镀的功率，真空等级不同会有颜色的变化。溅镀，溅镀是利用氩离子轰击靶材，击出靶材原子变成气相并析镀于基材上。溅镀具有广泛应用的特性，几乎任何材料均可析镀上。溅镀的优点与限制，优点，无污染，多用途附着性好限制靶材的制造受限制，靶材的受损，如陶瓷靶材，限制了使用能量的范围析镀速率低溅镀系统，分类平面两极式：靶材为负极，基材为正极，三极式：由阳极，阴极，外加电子源等三种电极所组成的系统。
外加电子源产生电场加速正极离子化的气体分子。三极式系统不能使用于反应性溅镀，因为电子会影响反应气体与污染灯丝。 磁控溅镀：利用磁场作用提高溅镀速率，反应溅镀：将反应性气体导入真空腔中，并与金属原子产生化合物以镀着。电流的分类，直流电溅镀－应用于导电基材与镀层，交流（或射频）电溅镀－应用于导电或非导电基材与镀层，溅镀系统组合，靶材，在溅镀时，经电浆中的正离子轰击，而析镀于基材的镀层材料；靶材通常是阴极，溅镀的通量，溅镀时的通量即为溅镀原子的流量。流量原子的组成与经冷却，且未产生内扩散的靶材相同。同一靶材的所有材料之溅镀速率大致相同。(然而，蒸镀的蒸镀速率并不同)。接地屏蔽，将离子局限于仅轰击与溅镀靶材；避免靶材夹治具被溅击。屏蔽与靶材之间的距离必须小于暗带（dark space）的厚度，因此，在高频（13.5MHz）或高压使用时，此距离较近。挡板，设置在两个电极之间的活动板。通常溅击清洁靶材(靶材可能会在装载或操作时受到大气的污染)时移置于靶材与基材之间。
