高性能磁控溅射膜的原理

如题所述

第1个回答  2020-02-24
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子。电子飞向基片,氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面做圆周运动,该电子的运动路径很长,在运动过程中不断撞击电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次的碰撞后电子的能量逐渐降低,拜托磁力线的束缚,远离靶材,最终沉积在基片上。