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激光直写光刻技术
紫外
激光直写
式
光刻
指的是
答:
紫外
激光直写
式光刻指的是一种利用紫外激光束直接在材料表面进行高精度微纳加工的技术。这种技术通过控制激光的功率、扫描速度和聚焦状态等参数,将紫外激光束聚焦到极小的点,直接作用于材料表面,从而实现高精度、高分辨率的微纳加工。与传统的
光刻技术
相比,紫外激光直写式光刻具有无需掩膜、加工精度高...
激光直写光刻
机与芯片光刻机的区别
答:
采用
技术
不同、刻印方式不同等。采用技术不同:
激光直写光
刻机采用
激光技术
刻印,而芯片光刻机采用金属仪器刻印。刻印方式不同:激光直写光刻机是采用激光刻印方式直接刻印,而芯片光刻机是先刻印到芯片上后再转印到需要刻印的地方。
国内
直写光刻技术
行业的领先企业芯碁微装
答:
今日科创板我们一起梳理一下芯碁微装,公司专业从事以微纳
直写光刻
为
技术
核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务,主要产品及服务包括 PCB 直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他
激光
直接成像设备以及上述产品的售后维保服务,产品功能涵盖微米到纳米的多领域光...
苏大维格
光刻
机可以用于芯片吗
答:
苏大维格光刻机可以用于芯片。苏大维格主要生产的是
激光直写光刻
机,并非制造芯片用的掩膜光刻机。虽然苏大维格在投资者互动平台表示公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售,并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口,但这里所指的光刻机并非制造芯片所用的光刻机,公司光刻设备不能直接用于芯片研发...
微透镜的微透镜的制作工艺
答:
到目前为止,已经出现很多制备折射微透镜阵列的方法,光刻胶热回流方法、
激光直写
方法、微喷打印法、溶胶一凝胶法、反应离子刻蚀法、灰度掩模法、热压模成型法、光敏玻璃热成型法删等。下面主要介绍几种主流的微透镜阵列制作方法。(1)光刻胶热回流
技术光刻
胶热回流法(熔融光刻胶法)是Poporie于1988年提出的,整个...
...家首次获得纳米级光雕刻三维结构,此举对于
光刻
机的发展有何意义...
答:
南京大学的科研团队发明出来的
技术
可以对
激光
移动的位置和方向进行控制,进而让晶体产生有效电场,使三锥结构实现擦除和
直写
。这项技术的研发让飞秒激光的精度达到纳米级别,而且在将这一技术运用到人工智能、通讯、光计算等领域时也能够促进相关行业的发展。该项技术对激光的控制让传统飞秒,在光衍射上达到...
什么是微光刻,跟
激光光刻
有什么区别?
答:
光刻技术
的叫法有photolithography,microlithography等等,但是意思上没有本质区别。lithography的英文愿意是印刷,加上photo或者micro目的是区别光刻和传统 印刷技术 。采用 激光 进行光刻的种类和用途很多,直接说
激光光刻
很不科学,因为用 激光光源 进行光刻的有
激光直写光刻
,准分子激光 步进式投影光刻,准...
光刻
机
技术
到底是谁发明的?
答:
光刻
的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、
光刻
胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和
直写
式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子
激光
器等。
direct-laser-writing 什么意思
答:
direct-laser-writing
激光直写技术
;激光直写工艺 例句筛选 1.Transmission phase gratings with continuous relief structures are fabricatedwith one step direct laser writing grayscale photolithography.利用一步激光直写灰阶
光刻
方法制作了具有连续浮雕结构的透射式相位光栅。2.Real-time control method ...
电子束灰度
光刻
实现3D结构的加工
答:
因此,灰度
光刻
应运而生,它利用电子束在
光刻
胶上的灰度曝光,实现不同深度的结构,如图3所示,这在
激光直写
和接触式光刻中同样可行。电子束灰度光刻的3D微纳加工
技术
,如图2所示的微纳光学元件,涉及到选择合适光刻胶与显影液的高精度工艺。灰度光刻的难点在于控制对比度,确保欠曝光区域的光刻胶处于...
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