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阴极溅射概念
阴极溅射
的阴极溅射
答:
当真空室内的真空度为13Pa时,在阴阳两电极间加上一定的电压,气体发生自激放电,
从阴极发射出的原子或原子团可沉积在阳极或真空室的壁上
。这种溅射称为阴极溅射。图二 阴极溅射原理图阴极溅射放电回路,是靠气体放电产生的正离子向阴极运动和一次电子向阳极运动形成的,放电过程是靠正离子撞击阴极产生二...
阴极溅射
(二)阴极溅射
答:
阴极溅射的原理可以通过图二的示意图来理解。
放电回路由气体放电产生的正离子向阴极移动以及一次电子向阳极的运动构成
。放电过程中,正离子撞击阴极会产生二次电子,这些电子在克鲁克斯暗区中被加速,以补偿一次电子的损失,维持放电的持续进行。从外部电路观察到的放电电流,实际上是正离子流和阴极发射的二次...
直流磁控
溅射
和射频磁控溅射的区别到底是什么啊
答:
直流溅射又称为阴极溅射或二极溅射
。其典型的溅射条件为,溅射气压8-14Pa,溅射靶电压3000V,靶电流密度0.5mA/cm2,薄膜沉积速度低于0.1mm/min。直流溅射过程中,溅射气压是一个重要的参数,对溅射速率以及薄膜的质量都有很大的影响。在气压低于1Pa时,不容易维持自持放电。这是由于在较低的气压条件...
阴极溅射
的主要特点 有哪些?
答:
(1)一个粒子轰击阴极表面可溅射出的原子数,称为溅射系数
。(2)阴极电位降和轰击粒子的质量越大,阴极溅射越激烈。(3)在其它条件一定时,气压越小溅射越严重,当气压大时,由于溅出的粒子易与周围高密度的气体碰撞而返回表面,因而溅出量减少。(4)阴极金属的化学特性对溅射率有显著的影响。(5...
阴极溅射
与磁控溅射又什么区别与联系
答:
磁控溅射是阴极溅射的一种吧,是利用阴极溅射的原理进行镀膜
。磁控溅射是在二极溅射的基础上,在靶材后面放置磁钢。在与靶阴极电场垂直的方向加一横向的磁场。靶面前的电子受到电磁场洛伦兹力的作用,在靶面附近做螺旋运动,增加碰撞几率。它克服了阴极溅射速率低和由于电子轰击使基片温度升高的致命弱点。
、离子对基片的轰击有哪些作用?离子轰击状态下的成膜条件是什么?_百度...
答:
①离子束溅射:在真空状态下,用离子束轰击靶表面,使溅射出的粒子在基片表面成膜,该工艺较为昂贵,主要用于制取特殊的薄膜。②
阴极溅射
:主要利用低压气体放电现象,使处于等离子状态下的离子轰击靶面,溅射出的粒子沉积在基片上。
阴极溅射
法发展历程
答:
1971年,平面
阴极
的创新极大地提升了镀膜速度,其
溅射
特性超越了传统方法。这一技术的一大亮点是其可以向任意方向进行溅射,这对于如浮法玻璃在驱动辊上水平移动时,蒸发镀膜无法向下移动的情况提供了突破。同年,Airco Temescal(现BOC Coating Technology)开发的首个用于汽车顶棚的溅射玻璃生产线开始批量生产...
为什么靶材是
阴极
答:
这是因为靶材的
阴极
是相对于腔体阳极来说的。在
溅射
过程中,靶材上的原子会被带正电的氦离子碰撞,而氦离子所带的正电,由于一定是飞向阴极(也就是常规说的负极),所以称靶材为阴极。PS氦原子在真空环境里,被电弧激发(一次激发,或者二次)失去一个电子,形成阳离子,迁移过程中,成为溅射中持续的...
原子化的方法有哪两种,各能测到什么数量级
答:
d.
阴极溅射
原子化器是利用辉光放电产生的正离子轰击阴极表面,从固体表面直接将被测定元素转化为原子蒸气。C 分光系统(单色器)由凹面反射镜、狭缝或色散元件组成 色散元件为棱镜或衍射光栅 单色器的性能是指色散率、分辨率和集光本领 D 检测系统 由检测器(光电倍增管)、放大器、对数转换器和电脑组成 ...
真空镀膜原理(里面用到中频··多弧的)
答:
3.提高
溅射
速率是有一定限度的。施加到靶表面的功率密度与靶的溅射速率成正比。等离子体放电空间的离化率越高,靶的溅射电流才可能增大。于是有了种种强化电离的手段来提高溅射速率。实际上限制溅射速率的原因是:靶(
阴极
)能够耗散多少功率?溅射离子的能量大约70%需要从阴极冷却水中带走,如果这些热量不能及时带走,...
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