为什么靶材是阴极

Question

为什么一般情况下靶材是阴极的！！！！！！！！！
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Answer 1

这是因为靶材的阴极是相对于腔体阳极来说的。在溅射过程中，靶材上的原子会被带正电的氦离子碰撞，而氦离子所带的正电，由于一定是飞向阴极（也就是常规说的负极），所以称靶材为阴极。
PS氦原子在真空环境里，被电弧激发（一次激发，或者二次）失去一个电子，形成阳离子，迁移过程中，成为溅射中持续的流向阴极“电流”。

Answer 2

在溅射镀膜过程中，靶材被作为阴极，原因在于溅射镀膜过程中涉及到的物理原理和设备结构。

溅射镀膜过程主要包括以下几个步骤：

1. 产生高能离子：在真空环境中，采用磁控溅射设备将惰性气体（通常为氩气）电离，产生高能氩离子。

2. 高能离子的加速：在磁控溅射设备中，设置一对电极，其中靶材被连接到负电极（阴极），衬底（或称基片）被连接到正电极（阳极）。由于阴阳极之间的电场作用，高能氩离子被加速向阴极（靶材）移动。

3. 靶材被溅射：高能氩离子撞击靶材表面，将靶材的原子或分子从表面剥离。

4. 薄膜沉积：从靶材表面剥离的原子或分子沉积到衬底（阳极）表面，形成薄膜。

因此，在溅射过程中，靶材被作为阴极是为了在电场作用下加速氩离子，使其撞击靶材表面，从而实现靶材原子或分子的溅射和薄膜的沉积。这种设备结构和物理原理使得靶材在溅射镀膜过程中必须作为阴极。