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靶材材料
做
靶材
的
材料
人需要了解的金属材料的力学性能有哪些?
答:
那么,做
靶材
时常见的金属
材料
及其力学性能大致如下:钨(W):极高的熔点和硬度,强度高,但延展性较低。钽(Ta):良好的延展性和韧性,高强度,适用于高能环境。钛(Ti):轻质,高强度,良好的耐腐蚀性,但成本较高。铜(Cu):良好的导电性和热导性,延展性好,但硬度较低。每种材料的选用都...
什么叫
靶材
?电容触摸屏的靶材主要是什么?
答:
靶材
是指在物理沉积过程中,通过蒸发或溅射等方法,将
材料
源头放置在设备中以产生薄膜的材料。靶材通常是固体的,并且其原子或分子可以通过蒸发或离子轰击而释放出来,最终沉积在基底材料上形成所需的薄膜。对于电容触摸屏,靶材的选择取决于具体的屏幕技术和制造过程。常见的电容触摸屏技术包括电容式和表面声...
什么是
靶材
?
答:
靶材
就是高速荷能粒子轰击的目标
材料
,通过更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。目前,(纯度)溅射靶材按照化学成分不同可分为:1)金属靶材(纯金属铝、钛、铜、钽等)。2)合金靶材(镍铬合金、镍钴合等)。3)陶瓷化合物...
什么是
靶材
?请赐教!另外靶材一般用途是什么?
答:
靶材
是指用于制备薄膜、涂层、表面改性等
材料
科学中的靶材料。它通常是一种高纯度的金属、合金或氧化物,通常是在真空中加热蒸发形成薄膜,可以通过磁控溅射、电子束蒸发、激光溅射等技术来制备薄膜。靶材的一般用途包括:1. 维护和改善材料的表面性能,如硬度、耐磨性、抗腐蚀性等;2. 用于制备新型材料或...
靶材
的简介
答:
靶材
,也被称为溅射靶,是一种在物理薄膜沉积过程中使用的
材料
。它主要被用在溅射沉积(sputter deposition)中,这是一种常用的薄膜制备技术。溅射沉积是通过将粒子(通常是氩离子)加速撞击靶材,从而将靶材的原子或分子“溅射”出来,并沉积在衬底表面形成薄膜的过程。靶材通常是固态,并且是要制备薄膜的...
ito
靶材
是什么
答:
ITO
靶材
是一种透明导电氧化物靶材。其主要成分为铟锡氧化物(Indium Tin Oxide, ITO),具有高透明度和良好的电导率,被广泛应用于电子、光学、显示器等领域的薄膜制备中。ITO靶材通常由纯度高达99.99%的ITO粉末制成,通过高温热压成型或电弧蒸发等工艺制备而成。在制备过程中,需要保证靶材表面平整、无...
陶瓷
靶材
是比较脆的
材料
,只制备过程中需要注意什么呢?在材料特性方面有...
答:
陶瓷
靶材
是一种脆性较高的
材料
,因此在制备过程中需要注意以下几点:1. 陶瓷粉末的选择:需要选择高纯度、细粒度、均匀分布的陶瓷粉末作为原料,在混合和成型过程中,应保证陶瓷粉末的均匀性。2. 成型时应避免过多压力:在成型时,应注意掌握好压力的大小,过大压力可能会导致陶瓷靶材内部出现裂缝、变形。
科研实验中为什么有些
靶材
要绑定背靶呢?
答:
01
靶材靶材
是制作薄膜的
材料
,利用高速荷能粒子轰击的目标材料,通过不同的激光(离子光束)和不同的靶材相互作用得到不同的膜系,实现导电和阻挡的功能。所以靶材又称为“溅射靶材”,他的工作原理就是利用离子源产生的离子,在真空中聚集并提速,用形成的高速离子束流来轰击靶材表面,发生动能交换,让靶材表面的原子沉积...
磁控溅射中的
靶材
分为金属合金靶和陶瓷靶,那像一些金属氧化物的靶材为...
答:
磁控溅射中的
靶材
确实分为金属合金靶和陶瓷靶。金属合金靶主要由纯金属或金属间的合金组成,而陶瓷靶主要由金属氧化物、氮化物、硼化物等无机非金属化合物组成。尽管金属氧化物的靶材含有金属成分,但它们被称为陶瓷靶的原因在于其结构和性质。陶瓷是一种无机非金属
材料
,通常具有以下特点:1. 高熔点和高...
镀膜
靶材材料
成分
答:
镀膜
靶材
的
材料
成分根据镀膜的应用和目标金属而有所不同,常见的材料包括:1. 硅(Si):用于制备氧化硅(SiO2)薄膜。2. 铬(Cr):用于制备铬薄膜,常用于光学、电子等领域。3. 镍(Ni):用于制备镍薄膜,广泛应用于磁记录、电子和防腐领域。4. 钨(W):用于制备钨薄膜,在电子和涂层领域有广泛的...
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