陶瓷靶材是比较脆的材料，只制备过程中需要注意什么呢？在材料特性方面有哪些要求呢？

Question

如题所述

Answer 1

陶瓷靶材是一种脆性较高的材料，因此在制备过程中需要注意以下几点：
1. 陶瓷粉末的选择：需要选择高纯度、细粒度、均匀分布的陶瓷粉末作为原料，在混合和成型过程中，应保证陶瓷粉末的均匀性。
2. 成型时应避免过多压力：在成型时，应注意掌握好压力的大小，过大压力可能会导致陶瓷靶材内部出现裂缝、变形。
3. 控制烧结温度及时间：烧结温度一般要高于陶瓷靶材材料的烧结温度，同时要控制好热处理的时间和速率，防止过度烧结或不足烧结。
在材料特性方面，陶瓷靶材还有其他一些要求，如：
1. 高密度：通过精密制造工艺和加热烧结，确保陶瓷靶材具有高密度和良好的物理特性。
2. 细小晶粒：细小的晶粒可提高其物理性能和耐腐蚀性。
3. 低气孔率：避免在制备过程中产生松散区域或气泡，提高结晶质量和物理性能。
4. 良好的均匀性：确保材料在表面和体积上均匀，从而达到良好的薄膜沉积效果。

Answer 2

陶瓷靶材的制备工艺
烘料:称量前将起始原料置于烘箱中烘料3~6小时,烘料温度为100~120℃;
配料:将烘干的原料按照相应的化学计量比称量;
球磨:将称量好的原料以某种制备方式混料,混料时间为4~12小时,制成均匀浆料;
干燥:将制得的均匀浆料烘干;
煅烧:将烘干的粉料过筛并轻压成块状坯体置于马弗炉中,在800~950℃煅烧4~8小时,制成煅烧粉料;
球磨:将煅烧后的粉料研磨成细粉,再次球磨、烘干得到陶瓷粉料;
制坯:将制成的陶瓷粉料采用钢模手压成直径5~20mm、厚度约0.5~1.2mm的样片,将样片放入冷等静压机中,施加200~350MPa的压力,保压60~180s,制成所得陶瓷坯体;
烧结:将制成的陶瓷坯体置于马弗炉中,在1100~1200℃烧结4~6小时;
冷却:自然冷却至室温,即制得某种陶瓷靶材.
注:提供的温度、时间仅当做参考数据.
陶瓷靶材的特性要求
纯度:陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大,纯度越高,溅射薄膜的均匀性和批量产品的质量的一致性越好.
密度:为了减少陶瓷靶材的气孔,提高薄膜性能,要求溅射陶瓷靶材具有高密度.
成分与结构均匀性:为保证溅射薄膜均匀,尤其在复杂的大面积镀膜应用中,必须做到靶材成分与结构均匀性好.本回答被提问者和网友采纳