靶材的简介

Question

如题所述

Answer 1

靶材，也被称为溅射靶，是一种在物理薄膜沉积过程中使用的材料。它主要被用在溅射沉积（sputter deposition）中，这是一种常用的薄膜制备技术。溅射沉积是通过将粒子（通常是氩离子）加速撞击靶材，从而将靶材的原子或分子“溅射”出来，并沉积在衬底表面形成薄膜的过程。
靶材通常是固态，并且是要制备薄膜的材料。比如，如果我们想制备铜薄膜，那么靶材就应该是铜；如果我们想制备氧化铟锡（ITO）薄膜，那么靶材就应该是ITO。靶材可以是纯元素，也可以是合金、化合物或者陶瓷。
靶材的形状和尺寸通常取决于沉积设备的要求。常见的靶材形状有圆形、矩形等，尺寸可以从几厘米到几十厘米不等。此外，靶材的纯度也非常重要，因为靶材中的杂质可能会影响薄膜的性能。
不同的靶材在溅射过程中的行为可能会有所不同。例如，一些靶材可能会在溅射过程中产生较多的粒子，这可能会影响薄膜的平滑度和均匀性。因此，选择和制备合适的靶材对于薄膜的性能至关重要。
总的来说，靶材是薄膜制备过程中的关键材料，其质量和性能直接影响到薄膜的性能和应用。

Answer 2

材质分类
⒈金属靶材
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。
⒉陶瓷靶材
ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。
⒊合金靶材
铁钴靶FeCo、铝硅靶AlSi、钛硅靶TiSi、铬硅靶CrSi、锌铝靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、 钛镍靶TiNi、镍铬靶NiCr、镍铝靶NiAl、镍钒靶NiV、镍铁靶NiFe等……