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靶材材料
陶瓷
靶材
做法?
答:
一种全新的陶瓷
靶材
制备工艺。提供一种[(Bi1/2Na1/2)0.9118Ba0.0582La0.02]Ti0.96M0.04O3陶瓷靶材的制备方法,其中M为Hf、Zr和Sn中的一种;具体步骤为:(1)烘料:称量前将起始原料Bi2O3、Na2CO3、BaCO3、TiO2、La2O3、MO2置于烘箱中烘料3~6小时,烘料温度为100~120℃;(2)配料:...
为什么旋转
靶材
两端比中间粗些
答:
在旋转靶材的制备过程中,靶材两端比中间粗一些是为了满足均匀磨损和延长靶材的使用寿命。当靶材在物理气相沉积(PECVD)或磁控溅射等工艺中使用时,离靶材两端较远的区域通常会更快地受到磨损。这是因为这些区域更容易暴露在激发粒子束或离子束的轰击下,导致
靶材材料
的逐渐消耗。为了减缓靶材两端的消耗速度...
靶材
熄弧原因
答:
靶材
熄弧原因有靶材材质不均匀或含有气体,靶材表面积碳化或者污染,靶材表面积聚气体,工艺参数设置不当,靶材与基板之间的距离设置不当,真空度不足。1、靶材材质不均匀或含有气体,导致靶材表面出现裂纹或气泡,最终导致熄弧。2、靶材表面积碳化或者污染,这些杂质会吸收或反射能量,从而导致电弧不能正常...
普通摄影用x线管阳极的靶面
材料
是
答:
钨。查询相关资料显示,普通摄影用x线管阳极的靶面
材料
是钨。X 射线管是工作在高电压下的真空二极管,包含有两个电极 :一个是用于发射电子的灯丝,作为阴极,另一个是用于接受电子轰击的
靶材
,作为阳极,两极均被密封在高真空的玻璃或陶瓷外壳内。
半导体用超高纯金属溅射
靶材
和高纯金属溅射靶材有区别吗
答:
超高纯金属溅射
靶材
是指金属
材料
的纯度达到9N(99.9999999%)以上,也就是纯度高于99.9999999%。超高纯金属溅射靶材的制备需要采用特殊的制备工艺和设备,以保证材料的高纯度,从而可以在制备半导体器件和其他高精度电子元件时提供高品质的金属薄膜。相比之下,高纯金属溅射靶材的纯度通常在6N(99.9999%)...
磁控溅射
靶材
对磁控溅射有什么影响
答:
磁控溅射
靶材
对磁控溅射过程和薄膜质量有很大影响。以下列出了其中一些主要方面:成份:靶材的成分直接决定了沉积膜的
材料
组成,从而影响其性能、特性和应用领域。纯度:靶材的纯度对薄膜质量、性能和可靠性具有重要影响。高纯度的靶材可以减少杂质引入,保证优良的薄膜性能。密度和表面处理:靶材密度和表面质量...
为什么溅射
材料
时需要等pvd
靶材
冷却呢?
答:
防止
靶材
过热:溅射过程中,气体离子被加速并撞击靶材,将其动量传递给靶材原子,提供足够的能量使其从晶格中逃逸。这种放热动量转移会使靶材温度升高,可能在原子水平上达到极高的温度。保持薄膜质量稳定:如果靶材表面温度过高,可能会造成蒸镀现象,使得金属薄膜的质量不稳定。防止靶材开裂或脱靶:如果靶材...
磁控溅射
靶材
现在在向什么方向发展?
答:
尽管我的知识截止于2021年9月,但我可以总结一些溅射
靶材
技术发展的趋势。溅射靶材的技术发展和下游应用领域的技术革新紧密相关。在过去几年中,溅射靶材的发展趋势主要集中在以下几个方向:1. 高性能
材料
:随着科学技术的进步,对高性能、高质量的薄膜材料的需求不断增加。因此,研究和开发具有更高纯度、...
科研实验中
靶材
用溅射沉积的方式有什么优缺点?
答:
3.
靶材
消耗:靶材在使用过程中会逐渐被消耗,需要定期更换,这可能导致
材料
成本上升。4. 基片损伤:溅射过程中可能会产生高能粒子,这些粒子有时候会损伤基底或改变薄膜的性质。5. 制程复杂性:需要精确控制多个参数以保证膜层质量,对工艺人员的要求较高。6. 均匀性问题:尽管溅射能够得到相对均匀的膜层...
用xrd物相分析钢铁
材料
时用什么
靶材
?
答:
除了不能用铜
靶
,其他的基本都行,如铁靶,钨靶都行!
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