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靶材材料
三氧化二铝
靶材
维氏硬度
答:
三氧化二铝(Al2O3),也称为氧化铝或刚玉,是一种无机化合物,具有高熔点、高硬度和高抗磨损性等特点。维氏硬度(Vickers hardness,HV)是一种
材料
硬度测试方法,它通过测量材料表面对金刚石压痕的抗压能力来评估材料的硬度。氧化铝的维氏硬度因其纯度和晶体结构的不同而有所差异。一般来说,纯度较高...
溅射
靶材
主要由什么构成?绑定背靶起到什么作用?
答:
背靶绑定是指用焊料将
靶材
与背靶焊接起来.主要有三种的方式:压接、钎焊和导电胶.靶材绑定常用钎焊,钎料常用In、Sn、In –Sn,一般使用软钎料的情况下,要求溅射功率小于20W/㎝ 为什么要绑定背靶?1、防止靶材受热不匀碎裂,例如ITO、SiO2、陶瓷等脆性靶材及烧结靶材;2、节省成本,防止变形,如靶材太贵,可...
溅射和溅射
靶材
的区别和用途
答:
溅射(Sputtering)是一种物理气相沉积(PVD)的方法,用于制备薄膜。在溅射过程中,一个被称为“
靶材
”(Target)的固体
材料
被离子轰击,从而将靶材的原子或分子“溅射”出来,这些溅射出来的原子或分子随后在基材(如硅片、玻璃片等)上凝结形成薄膜。靶材是溅射过程中的关键材料,其材料种类、纯度、结构...
为什么ito
靶材
产生的particle比较多
答:
ITO(氧化铟锡)
靶材
在溅射过程中可能会产生较多的粒子(particles),这通常可以归因于以下几个原因:1. **靶材的质量和纯度**:如果ITO靶材中存在杂质或者非均匀的成分分布,那么在溅射过程中这些区域可能会比周围的区域更易于被击出粒子。2. **溅射过程中的电压和电流条件**:溅射过程中的电压和电流...
靶材
的纯度对镀膜有什么影响吗?
答:
靶材
的纯度对镀膜有直接影响。高纯度的靶材可以确保沉积膜的高质量,包括其结晶性、电学性能和光学特性等。如果靶材纯度不够,镀膜中会夹杂有杂质,这些杂质可能会引起膜层缺陷,如非晶形态的增多、微观裂纹的形成、电阻率的升高以及光吸收率的改变。在要求严格的应用中,如半导体器件或光学涂层,这些缺陷...
金属
靶材
的发展前景
答:
钨-钛
靶材
作为光伏电池镀膜
材料
是最近发展起来的,它作为第三代太阳能电池的阻挡层是最佳选择。由于 W-Ti 系列薄膜具有非常优良的性能,近几年来应用量急剧增加,2008年W-Ti 靶材世界用量已达到400t,随着光伏产业的发展,这种靶材的需求量会越来越大。具行业预测其用量还会有很大的增加。国际太阳能电池...
钛
靶材
的功能和特点谁知道 告诉下谢谢!!!
答:
真空镀膜:一种产生薄膜
材料
的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空...
ITO
靶材
成型方法是什么?
答:
ITO
靶材
主要有四种成型方法 真空热压--真空热压法是利用热能和机械能使陶瓷
材料
致密化的工艺,可生产密度为91%~96%的高密度ITO陶瓷靶材.过程如下:加热模具,加入样品,将模型固定在加热板上(控制熔化温度和时间),然后将样品熔化、硬化、冷却,最后就可以取出成品了出去.热等静压--热等静压 (HIP)可以认为是...
离子镀溅射
靶材
有什么优缺点吗?
答:
需要更精细的工艺控制和优化。3. 设备维护要求:离子源和其他高能束流设备需要周期性的维护和校准,以确保它们的性能和稳定性。4.
靶材
消耗可能增加:施加的离子束有可能加速靶材的消耗,增加
材料
成本。5. 可能引起基片损伤:高能离子可能对基片造成损伤,需要仔细优化参数以防止过度加热或损坏。
什么是溅射
靶材
?
答:
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的
材料
上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。溅射
靶材
主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏 、激光存储器、电子控制器件等,亦可应用于玻璃镀膜领域,还...
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