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阴极溅射镀膜
阴极溅射
的阴极溅射
答:
图二
阴极溅射
原理图阴极溅射放电回路,是靠气体放电产生的正离子向阴极运动和一次电子向阳极运动形成的,放电过程是靠正离子撞击阴极产生二次电子,通过克鲁克斯暗区被加速,以补充一次电子的消耗来维持。因此,外部电路中测得的放电是轰击靶的正离子流和阴极发射的二次电子流之和。溅射法
镀膜
具有如下优缺...
真空
镀膜
和光学镀膜使用方法和常用材料分别有什么不同?
答:
1、真空
镀膜
的方法材料:(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜.(2)
阴极溅射镀
:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,...
溅镀
的原理
答:
任何材料皆可
溅射镀膜
,即使高熔点材料也容易
溅镀
,但对非导体靶材须以射频(RF)或脉冲(pulse)溅射;且因导电性较差,溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属<5W/cm2二极溅镀射:靶材为阴极,被镀工件及工件架为阳极,气体(氩气Ar)压力约几Pa或更高方可得较高镀率。
光学
镀膜
“真空
溅射
”和“离子镀”工作方法
答:
系统抽至高真空后充入 10~1帕的气体(通常为氩气),在
阴极
和阳极间加几千伏电压,两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极,与靶表面原子碰撞,受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同,
溅射镀膜
不受膜材...
真空
镀膜
机的几种镀膜方法?
答:
溅射镀膜
是真空条件下,在
阴极
接上高压电,激发辉光放电,带正电的氩离子撞击阴极靶材,使其射出膜料粒子,并沉积到基片上形成膜层。离子镀膜 离子镀膜通常指在镀膜过程中会产生大量离子的镀膜方法。在膜的形成过程中,基片始终受到高能粒子的轰击,膜层强度和结合力非常强。真空卷绕镀膜 真空卷绕镀膜是一...
阴极溅射
与磁控溅射又什么区别与联系
答:
磁控溅射是
阴极溅射
的一种吧,是利用阴极溅射的原理进行
镀膜
。磁控溅射是在二极溅射的基础上,在靶材后面放置磁钢。在与靶阴极电场垂直的方向加一横向的磁场。靶面前的电子受到电磁场洛伦兹力的作用,在靶面附近做螺旋运动,增加碰撞几率。它克服了阴极溅射速率低和由于电子轰击使基片温度升高的致命弱点。
真空
镀膜
原理(里面用到中频··多弧的)
答:
利用磁控管的原理,将等离子体中原来分散的电子约束在特定的轨道内运转,局部强化电离,导致靶材表面局部强化的溅射效果。号称为“高速、低温”溅射技术。磁控溅射得到广泛应用的原因,除了效果明显之外,结构不复杂是一个重要的因数,大面积的
溅射镀膜
工艺得到推广。应该看到,靶面溅射不均匀导致靶材利用率低是其固有的缺点。
PVD真空
镀膜
原理是什么?
答:
常用的PVD镀膜有三种:真空蒸镀、
溅射镀膜
和离子镀 1、真空蒸镀:是在适当的压强下用电子束等热源加热材料使之蒸发,蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层;2、溅射镀膜:是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法,施镀时,将工作室抽成真空,冲入氩气做为工作气体,并保持其压力为0.13至1.33帕;3、离子...
溅射镀膜
和蒸发镀膜有什么区别?
答:
不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电;三极溅射是利用热
阴极
支持的辉光放电;射频溅射是利用射频辉光放电;磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。
溅射镀膜
与真空蒸发镀膜相比,有许多优点。如任何物质均可以溅射,尤其是高熔点,低蒸气压的元素和化合物;溅射膜...
磁控
溅射镀膜
设备的工作原理是什么?
答:
磁控
溅射镀膜
设备的工作原理要从一开始的"溅射现象"说起,人们由起初发觉"溅射现象"发展至"溅射镀膜"此间历经了相当长的发展时间,溅射现象早在19世纪50年代的法拉第气体放电实验就已经发现了.不过当时还只将此现象作为一种避免范畴的研究,认为这种现象是有害的.直到20世纪,才有人证明了沉积金属是
阴极
被正...
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