33问答网
所有问题
当前搜索:
pvd靶材利用率
蒸发镀膜和溅射镀膜的优缺点
答:
靶材利用率
:</ 通过优化磁场分布或磁铁运动,提高靶材的使用效率。 复合靶与广泛元素应用:</ 能够镀制多种合金膜,如Ta-Ti、Tb-Dy-Fe合金,且元素种类丰富,包括银、金等。 总的来说,蒸发镀膜和溅射镀膜各有优势,选择哪种技术取决于所需镀膜的具体要求和应用场景。每一种技术都在特定的领...
产品溅镀工艺流程?
答:
4. **溅射过程**:通过电源对
靶材
施加电压,将惰性气体离子加速到靶材表面。当离子撞击靶材时,将从靶材表面“溅射”出原子或分子,并在基材表面形成薄膜。这个过程可以通过直流(DC)溅射、射频(RF)溅射、反应溅射、磁控溅射等方式进行。5. **冷却和去真空**:在沉积足够厚度的薄膜后,停止溅射过程...
pvd
是什么工艺
答:
PVD
是英文Physical Vapor Deposition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,
利用
气体放电使
靶材
蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD技术的特点 1、PVD技术具有制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好...
真空镀的应用
答:
a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术,
靶材利用率达到70~80%以上
,基体镀膜均匀,色泽一致。b平面磁控溅射镀膜机;c中频磁控溅射镀膜机;d射频磁控溅射镀膜机。可以在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷)的工件镀金属铝、铜、钛金、锆、银、不锈钢及金属反应物(氧...
PVD
镀膜工艺分类及介绍
答:
三、离子镀(Ion Plating)</ 在离子镀膜工艺中,电弧激发
靶材
原子与反应性气体结合,形成极薄且附着性强的涂层。尤其在切削刀具镀膜中,离子镀的密著性和快速成膜使其成为首选。阴极电弧法因其高离化率和均匀附着性,常用于硬质镀膜,提升耐磨性能。相较于传统电镀,
PVD
有着显著优势。真空镀膜的厚度...
科研实验中
靶材
用溅射沉积的方式有什么优缺点?
答:
靶材
的溅射沉积是一种物理气相沉积(
PVD
)技术,广泛应用于薄膜材料的制备,如导电层、磁性材料、光学膜等。该技术
利用
离子或原子在电场作用下高速撞击固体靶材表面,导致靶材原子从表面剥离并沉积在基片上形成薄膜。优点:1. 材料多功能性:溅射可以用来沉积各种类型的材料,包括金属、氧化物、氮化物、碳化物等...
什么叫真空镀膜机?现在有哪些领域可以用到?
答:
a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术,
靶材利用率
达到70~80%以上,基体镀膜均匀,色泽一致。b平面磁控溅射镀膜机;c中频磁控溅射镀膜机;d射频磁控溅射镀膜机。可以在金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷)的工件镀金属铝、铜、钛金、锆、银、不锈钢、镍、钼、硅、...
矢量科学丨十种真空镀膜技术
答:
电子束蒸镀技术利用高能电子轰击
靶材
,实现精确沉积。其优势在于提供高热量,加快沉积速度,避免蒸发材料的蒸发和污染。但能量
利用率
不高,且可能带来二次电子污染,影响薄膜成分。溅射镀膜技术利用离子轰击靶材表面,击出靶材原子沉积成膜。磁控溅射技术利用带电粒子在电场中的加速,将靶材原子溅射到衬底上沉积...
行业 异质结(HJT)电池 & 生产设备 2021-11-16
答:
4. 靶材:目前主要被日本住友垄断,未来将通过提升
靶材利用率
、规模化回收、背面AZO替代和国产化(广东先导、壹纳光电等)降本等方式解决。据爱康科技在互动平台表示,目前异质结电池成本电池端预计较PERC高约0.2元/W,反馈到组件端预计成本高出0.16元/瓦。而市场端异质结溢价在0.4元左右,经济性较...
直流磁控溅射与射频磁控溅射区别是什么?
答:
利用
同一周期内电子比正离子速度快进而沉积到
靶材
上的电子数目比正离子数目多从而建立起自偏压对离子进行加速实现靶的溅射。两种方式的特点:1、直流溅射:对于导电性不是很好的金属靶,很难建立较高的自偏压,正离子无法获得足够的能量去轰击靶材 2、射频的设备贵,直流的便宜。
1
2
涓嬩竴椤
其他人还搜
利用率和利用效率
pvd常用靶材
真空镀膜靶材和pvd
pvd靶材温度
pvd靶材与颜色的关系
去离子水冷却pvd靶材
prb利用率
靶材 干什么用的
金属靶材的用途