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二氧化硅靶材磁控溅射
什么叫
靶材
?电容触摸屏的靶材主要是什么?
答:
靶材
是指在物理沉积过程中,通过蒸发或
溅射
等方法,将材料源头放置在设备中以产生薄膜的材料。靶材通常是固体的,并且其原子或分子可以通过蒸发或离子轰击而释放出来,最终沉积在基底材料上形成所需的薄膜。对于电容触摸屏,靶材的选择取决于具体的屏幕技术和制造过程。常见的电容触摸屏技术包括电容式和表面...
磁控溅射
可以制备有毒物质薄膜么
答:
PVD(物理气象沉积),用活泼金属靶(Al)、CVD(化学气象沉积)一般
磁控溅射
方法制备绝缘材料的薄膜有两种方法,
靶材
容易破裂。 化学气象沉积,溅射功率高。 物理气象沉积,用陶瓷靶(绝缘靶)溅射,缺点是溅射速率慢
陶瓷
靶材
为什么要加铜背板?
答:
1. 热导率:铜具有高热导率,可以有效地将
靶材
表面在溅射过程中产生的热量传导到冷却系统中。这有助于保持靶材的温度稳定,防止因过热而导致的靶材破裂或性能下降。2. 电导率:铜具有高电导率,可以提高溅射过程中的电流传导效率。这有助于降低靶材与
磁控溅射
系统之间的电阻损失,从而提高溅射效率。3. ...
磁控溅射
中,衬底温度是不是溅射温度?
答:
衬底温度:所要镀膜的基体,也就是你要往什么上面镀膜的东西。溅射温度:
磁控溅射
过程中,
溅射靶材
的温度。两者不同,一般衬底的温度是不知道的,只知道冷却水的温度,也可以称之为靶材的温度,即溅射温度。
光学镀膜“真空
溅射
”和“离子镀”工作方法
答:
由于电子迁移率高于正离子,绝缘靶表面带负电,在达到动态平衡时,靶处于负的偏置电位,从而使正离子对靶的溅射持续进行。采用
磁控溅射
可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数量级。 离子镀: 蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面,称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子...
弱弱问一句,
磁控溅射
能喷碳吗
答:
可以的,
磁控溅射
是在等离子体情况下,离子向阴极
靶材
撞击,溅射出原子、原子团等沉积到基材上的过程,用金属作为靶材的基底,用碳作为靶材,可以溅射。不过溅射后真空腔室等不好清理而已。用直流脉冲溅射,中频溅射、射频溅射都可以实现,按照以上排名溅射速率增加。
直流
磁控溅射
和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下
答:
1 直流和射频是对加在靶上的电源所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面,射频是具有一定的频率(13.56MHz)间隔加在靶上的。详细解释只能去看书,还不让粘贴,没人会找本书来给你慢慢敲在这里 2 这个说法不对。直流
磁控溅射
只能用导电的
靶材
(靶材表面在空气中或者溅射过程中不会...
磁控溅射
起辉功率与溅射功率有没有什么必要的联系
答:
上图是气体放电伏安特性曲线
磁控溅射
的起辉是辉光放电后期的异常辉光放电。
靶材
一定,配置的电源也需要一定,功率需要达到一定程度才能实现起辉,磁控溅射。异常辉光有一个范围,溅射功率和你说的起辉功率应该是一个功率。小范围可以变化。
真空
磁控溅射
镀膜膜面怎么清除
答:
用无尘布加少量酒精就好了,不过要轻力擦。最好不要去擦。为什么要清除?
磁控溅射
制备薄膜的设备有哪些?
答:
pvd(物理气象沉积),用活泼金属靶(al)、cvd(化学气象沉积)一般
磁控溅射
方法制备绝缘材料的薄膜有两种方法,
靶材
容易破裂。化学气象沉积,溅射功率高。物理气象沉积,用陶瓷靶(绝缘靶)溅射,缺点是溅射速率慢
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