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直流磁控溅射镀膜原理
磁控溅射镀膜
设备简介与优点有哪些?
答:
于此区内电离出大量的Ar,对靶材进行轰击,所以说
磁控溅射镀膜
设备的沉积速率高。从而出现了磁控溅射镀膜这个设备,该设备集控溅射与离子镀膜技术为一体,对提高颜色一致性,沉积速率机化合物成分的稳定性提供了解决方案。根据不同的产品需求,可选配加热系统,偏压系统、离化系统等装置,其靶位分布可灵活调整...
磁控溅射
膜是什么意思?金属膜都是采用磁控溅射技术吗?
答:
3、简单的说,
磁控溅射
隔热的生产工艺就是在真空的环境里采用电离子有序轰击镍、银、钛、金、铟、铜、铝等贵金属耙材,并采用磁场控制的方式让金属离子均匀的溅射到光学级的PET基材上,沉积成金属
镀膜
层。4、隔热
原理
:磁控溅射隔热膜属于反射型隔热膜。它是将镍、银等金属的分子通过溅射的方法涂布在...
磁控溅射原理
及应用 参考资料
答:
在
镀膜
过程中,载能的带电粒子轰击作用可达到膜层的改性目的。比如,离子轰击倾向于从膜层上剥离结合较松散的和凸出部位的粒子,切断膜层结晶态或凝聚态的优势生长,从而生更致密,结合力更强,更均匀的膜层,并可以较低的温度下镀出性能优良的镀层。非平衡
磁控溅射
技术的运用,使平衡磁控溅射遇到的沉积...
关于
溅射
靶材,
镀膜
材料类的产品 ,刚开始接触,如何熟悉产品 ,从哪方 ...
答:
组分均匀性:蒸发
镀膜
组分均匀性不是很容易保证,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性:1。晶格匹配度 2。 基片温度 3。蒸发速率 .要想熟悉产品,必须熟悉原理,原理如下:
磁控溅射原理
:在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场...
磁控溅射镀膜
机导致不均匀因素哪些
答:
原理
上讲,两点:气场和磁场
磁控溅射
在0.4Pa的气压情况下离子撞击靶材,溅射出粒子沉积到基材上,整体靶材的电压几乎一致,不影响溅射速率。0.4Pa的气场情况是溅射速率最高的情况,气场变化,压强变大和变小都会影响溅射速率。磁场大,束缚的自由电子增多,溅射速率增大,磁场小,束缚的自由电子就少,...
利用
直流磁控溅射
Ni靶通氧镀出的膜是彩色的,为什麼?
答:
由于膜层的厚度不同,造成的干涉反射的光谱不同,形成不同的颜色。如同常见的肥皂泡、彩虹等。其原因是溅射不完全,不稳定造成的。如果是国内设备的话,很难解决。调整电压波动、真空室内的气场稳定及平衡。另外,膜层厚度改变较小的情况下效果不大。建议:在基片温度较低的情况下,通氧进行
溅射镀膜
。
磁控溅射
的技术分类
答:
阴极靶由
镀膜
材料制成,基片作为阳极,真空室中通入0.1-10Pa的氩气或其它惰性气体,在阴极(靶)1-3KV
直流
负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的氩离子轰击靶表面,使得靶原子溅出并沉积在基片上,形成薄膜。溅射方法很多,主要有二级溅射、三级或四级溅射、
磁控溅射
、对靶溅射、射频...
比较二极
直流
高频溅射 ,
磁控溅射
,反应性溅射的主要差别和范围 薄膜技 ...
答:
而由于二级
直流溅射
,电离溅射气体需要很高的电压,人们把磁铁置入靶材内部,在靶材表面形成磁场,这样,气体电离后的电子就会被束缚在靶材表面,做螺旋运动。这样,在较多电子轰击溅射气体分子,形成二次电子,有利于溅射气体的电离,形成溅射气体的自维持放电,这样的就叫做
磁控溅射
。而二级直流溅射电源,一般...
真空蒸镀与真空
溅镀
,离子镀之间的区别是什么
答:
主要是
原理
的区别。蒸发镀膜工作原理是将膜材置于真空镀膜室内,通过蒸发源加热使其蒸发,当蒸发分子的平均自由程大于真空镀膜室的线性尺寸,蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出后,很少受到其他分子或原子的冲击与阻碍,可直接到达被镀的基片表面,由于基片温度较低,便凝结其上而成膜。
磁控溅射镀膜
是指电子...
在
磁控溅射镀膜
过程中,薄膜沉积速率由哪些因素决定
答:
1. 溅射功率:溅射功率是指施加到靶材上的功率,它直接影响薄膜的沉积速率。增加溅射功率会增加靶材表面的溅射粒子数,从而增加沉积速率。2. 靶材性质:靶材的性质对沉积速率起着重要作用。靶材的组成、形状和尺寸等特性会影响溅射过程中溅射粒子的产生和传输,进而影响沉积速率。3. 气体氛围:在
磁控溅射
...
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