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磁控溅射的原理是什么
磁控溅射原理
答:
磁控溅射的
基本
原理是
利用 Ar一O2混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面,能量交换后,靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜。1、磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多...
磁控溅射原理
答:
磁控溅射原理
:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时镀膜、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正...
磁控溅射
镀膜机的工作
原理
,有谁知道
答:
但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用使单个电子轨迹呈三维螺旋状,而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓,那是靶源磁场磁力线呈圆周形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。 在
机理
下工作的不光
磁控溅射
,多弧镀靶源,离子源,等离子源等都在此
原理
下工作。所...
急!急。。。
磁控溅射
镀膜机的工作
原理
,有谁知道啊?
答:
磁控溅射原理
:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子...
磁控溅射
镀膜
原理
答:
磁控溅射的
工作
原理是
指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar正离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和...
什么是磁控溅射
答:
磁控溅射原理
:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时镀膜、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正...
真空镀膜设备
原理
答:
磁控溅射原理
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在*近靶面的等离子...
什么
叫
磁控溅射
工艺
答:
磁控溅射
工艺是一种表面处理技术,通过先将目标材料置于真空室内,然后使用高能离子轰击目标材料,使其表面部分被剥离出来,并在真空中形成薄膜沉积在基材上。这个过程中,磁场被用来控制离子轰击目标材料的方向和速度,以获得所需的薄膜沉积效果。磁控溅射工艺通常应用于表面涂层、光学膜、金属薄膜等领域。
磁控溅射原理
中起辉的具体过程?Ar气
是怎么
被电离的?
答:
具有一定能量离子撞击靶材的结果之一是靶材表面原子获得一定的能量,并离开靶材表面,向衬底运动。在上述
溅射的
过程中,还伴随有其他粒子,包括二次电子等从阴极的发射过程。这个是气体放电现象,电压一般在上千伏。但是
磁控溅射
不同,磁控溅射时,靶材表面有磁场,可将电子束缚在靶材周围,不至于丢失,形成自...
磁控溅射的
种类
答:
磁控溅射
包括很多种类。各有不同工作
原理
和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平...
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