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磁控溅射的原理是什么
高性能
磁控溅射
膜
的原理
答:
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子。电子飞向基片,氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,
溅射
出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该...
磁控溅射原理
及应用 参考资料
答:
1985 年,Window 和Savvides首先引入了非平衡
磁控溅射的
概念。不久,多种不同形式的非平衡磁场设计相继出现,磁场有边缘强,也有中部强,导致溅射靶表面磁场的“非平衡”。磁控溅射靶的非平衡磁场不仅有通过改变内外磁体的大小和强度的永磁体获得,也有由两组电磁线圈产生,或采用电磁线圈与永磁体混合结构,...
真空
磁控溅射
技术是?
答:
非平衡平面
磁控溅射
为了将等离子区域扩展,利用磁体摆放方式的调整,可以方便的获得不同的非平衡磁控源。2、圆柱磁控溅射沉积技术:利用圆柱形磁控阴极实现
溅射的
技术磁控源是关键部分,阴极在中心位置的叫磁控源;阳极在中心位置的叫反磁控源。四、特殊溅射沉积技术:以上面几种做基础,为达到某些特殊目的而...
什么是溅射
法
答:
当交流溅射技术用于对靶溅射时,一个周期中每块靶轮流充当阴极和阳极,形成良好的“自清洁”效应。在沉积多元合金或化合物薄膜时,还可以通过调节交变脉冲电压的占空比来改变薄膜的组分。非平衡磁控溅射 Window等人在1985年首先引入了非平衡
磁控溅射的
概念,并给出了非平衡磁控溅射平面靶
的原理
性设计。对于一...
磁控溅射
制备石墨烯是化学方法吗
答:
是利用氩原子电离后的氩离子轰击石墨靶材表面
溅射
成膜的物理方法。但是生成条件很苛刻,一般直接溅射生成类金刚石结构,不会生成石墨烯。
本底真空对
磁控溅射的
影响?
答:
磁控溅射
,磁场控制的二级溅射。
原理是
将靶材周围的气体电离化,形成等离子体,在等离子体环境中溅射过程。属于气体放电范畴。优质的膜层需要控制膜层的稳定性和均匀性,而体现在控制方面,则表现为:磁场、气场、电源。1.磁场的稳定:靶芯的磁场的均匀性。2.气场的稳定:稳定的抽气和进气系统。3.电源的...
磁控溅射的
工作
原理
答:
揭示
磁控溅射的
神秘世界:电子舞动与薄膜制造 磁控溅射,这个看似抽象的名词,实则是现代精密制造中不可或缺的精密技术。它的核心
原理
如同一场电子与氩原子的华丽舞蹈,展现了电场与磁场的神奇交融。首先,电子在强大的电场E的引导下,如同一颗被赋予使命的箭矢,以高速冲向基片。在这过程中,它们与氩原子...
真空
磁控溅射
为什么必须在真空环境?具体是个
什么原理
?可以不可以用通俗...
答:
溅射
过程是通过电能,使气体的离子(可以理解为为气体颗粒)轰击靶材(一般是金属溅射物),就像砖头砸土墙,土墙的部分原子溅射出来,落在所要镀膜的基体上的过程。如果气体太多,气体离子在运行到靶材的过程中,很容易跟路程中的其他气体离子或分子碰撞,这样就不能加速,也溅射不出靶材原子来。所以需要...
浅谈
磁控溅射
镀膜
的原理
答:
探索磁控溅射镀膜的奥秘:原理与应用 磁控溅射镀膜,即PVD(物理气相沉积)的瑰宝,是真空镀膜工艺的高端技术。其独特
的原理
和薄膜生长过程,如同一场精密的舞蹈,让我们深入了解一下。一、
磁控溅射的
魔法 想象一下,高能粒子,如电场驱动的正离子,如同箭矢般轰击着固体表面。这个过程中,表面原子和离子交换...
磁控溅射
过渡层的作用
答:
1、
磁控溅射
利用高频磁控管
的原理
,在溅射室中引入一个与电场方向正交的磁场。2、在此磁场的控制下,电子局限于靶极附近并沿螺旋形轨道运动,大大提高电子对氩原子的电离效率,增加轰击靶极的离子流密度j+,实现快速的大电流溅射。3、同时,又能避免电子直接向衬底加速,降低衬底的温升。磁控溅射有直流...
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