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离子溅射镀膜
什么叫磁控
溅射
工艺
答:
磁控
溅射
工艺是一种表面处理技术,通过先将目标材料置于真空室内,然后使用高能
离子
轰击目标材料,使其表面部分被剥离出来,并在真空中形成薄膜沉积在基材上。这个过程中,磁场被用来控制离子轰击目标材料的方向和速度,以获得所需的薄膜沉积效果。磁控溅射工艺通常应用于表面涂层、光学膜、金属薄膜等领域。
类金刚石薄膜的制备
答:
在分类上,PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空
离子镀膜
。对应于PVD技术的三个分类,相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空
溅射镀膜
机和真空离子镀膜机这三种。近十多年来,真空离子镀膜技术的发展是最快的,它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。我们通常所...
IPG 和IPB作为镀层的标准,有什么差别呢?
答:
真空
离子
电镀可分类:一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊.工艺有蒸镀、
溅镀
、枪色等。真空电镀适用范围较广,同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高,单价比水电镀昂贵。工艺流程作:产品表面清洁—去静电—喷底漆—烘烤底漆—真空
镀膜
—喷面漆—烘烤面漆—包装。
真空
镀
的应用
答:
目前水电镀在重工业上应用较多(汽车等),而真空电镀则广泛应用于家用电器、化妆品包装。如果真空电镀的硬度能达到水电镀的等级,那么水电镀将要消失了。目前很多手机上的金属外观件,都采用PVD真空
离子
镀,不仅能够提供漂亮的颜色而且耐磨性很好。不过比较贵,成本较高。溅射镀:磁控
溅射镀膜
设备:磁控溅射...
镀膜
技术可区分为哪几类?
答:
常被用来披覆成份复杂的化合物,
镀膜
的品质甚佳.它和电子束加热或
溅射
的过程有基本上的差异,准分子雷射脱离的是微细的颗粒,后者则是以分子形式脱离。(5)电弧加热:阴极电弧沉积的优点为:(1)蒸镀速率快,可达每秒1.0微米 (2)基板不须加热 (3)可镀高温金属及陶瓷化合物 (4)镀膜密高且附着力佳...
磁控
溅射镀膜
机的靶材怎么起弧
答:
新靶先装好,正负极要开路状态。可以用兆欧表测,表针摇到中间位置OK了,靶电源线要接好,当然你也可以用万用表量,检查靶的水路,进出水OK,真空度到达1。0-2PA后开始充氩气,等压强到2。0~3。0-1PA时,点靶就能起弧了。可以小电流轰靶了,慢慢加,靶如果跳的话,电流小一点,轰靶根据...
电镀与磁控
溅射
对比有什么优缺点?
答:
磁控
溅射
:磁控溅射(英语:magnetron sputtering)是在溅射的基础上,运用靶板材料自身的电场与磁场的相互电磁交互作用,在靶板附近添加磁场,使得二次电子电离出更多的氩
离子
,增加溅射效率。磁控溅射分为平衡式与不平衡式。这种技术应用于材料
镀膜
。其中高功率脉冲磁控溅射(high-power impulse magnetron ...
真空
镀膜
机的介绍?
答:
二、镀膜仪的工作原理 镀膜仪根据不同的测量需求,可以分为多种类型,例如旋转
溅射镀膜
仪、磁控溅射镀膜仪、真空蒸发镀膜仪、激光沉积镀膜仪等。不同类型的镀膜仪,其工作原理也有所不同,但大多数操作原理类似。 一般来说,镀膜仪的原理是利用电子束、
离子
束或光束等物理和化学方法,在真空环境下将精细化合物或单质材料...
镀锌镀铬镀铝区别是说什么
答:
三样东西的氧化速度不一样
镀
三样东西的工艺不一样 当然这三样东西的用途也不一样 要回答你的问题,首先要给个参照点,不知道你说的“镀”这玩意,是指在同一样材料上呢还是不同的材料,所以这个不同点,还是要有一定针对性才行。从我的理解,镀锌的主要目的是为了防腐如镀锌角钢,由于电化学反应...
真空
镀膜
:
答:
在ABS,PC,PBT,PE,PP,PA66等塑料基体上直接镀膜,不需喷底漆,也不需喷面漆(不需要投资喷涂设备),在镀完铝膜后直接镀一层保护膜。滴1%NaOH溶液10分钟铝层不腐蚀,去
离子
水中浸饱96小时铝层不脱落。磁控
溅射镀膜
设备及技术介绍 a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外最先进的磁控溅射...
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