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等离子清洗机真空腔体
等离子清洗
如何提高表面活化性?
答:
大气低温
等离子
体处理设备由等离子发生器、气体输送系统及等离子喷头等部分组成。等离子发生器产生高压高频能量在
腔体
中被电离产生低温等离子体,借助气流将低温等离子体输送到
腔体
外,当等离子体与被处理物体表面相遇时,使材料表面产生了化学变化和物理作用,其表面分子链结构得到了改变,建立了羟基、羧基等自由...
等离子
设备的最新技术
答:
等离子设备中频,射频等离子处理机型;处理方式有水平、垂直、卷式RTR、转鼓等
真空等离子
处理设备和喷射、准辉光、隧道、水平线多种常压等离子处理设备;等离子处理机具有高稳定性、高性价比、高均匀性等诸多优点。特色鲜明的处理
腔体
形状和电极结构可以满足不同形状、不同材质的表面处理要求,包括薄膜、织物、...
等离子
体刻蚀中自由基参与化学反应吗
答:
最早报道
等离子
体刻蚀的技术文献于1973年在日本发表,并很快引起了工业界的重视。至今还在集成电路制造中广泛应用的平行电极刻蚀反应室(Reactive Ion Etch-RIE)是在1974年提出的设想。图1显示了这种反应室的剖面示意图和重要的实验参数,它是由下列几项组成:一个
真空腔体
和真空系统,一个气体系统用于提供...
光学镀膜“
真空
溅射”和“
离子
镀”工作方法
答:
在光学镀膜中,
真空
溅射和
离子
镀是两种常用的物理气相沉积(PVD)技术,它们都是在真空环境下工作,通过将目标材料的原子或分子转移到基板上,从而形成薄膜。真空溅射**:真空溅射主要是利用离子束(通常是惰性气体,如氩)轰击目标材料,使得目标材料的原子被"溅射"出来,这些原子会穿过真空室并沉积在基板...
氧
等离子
体实验。采用RIE方式刻蚀,气体只通氧气。 刻蚀速率与哪些参数...
答:
Etch Rate 与 RF Power,O2 Flow, Pressure都有关,气压越高,一般是Etch Rate越高,但是刻蚀的均匀性会变差。但不知你是用O2刻蚀什么材料,可能也有所差别,因为O Plasma属于电负性气体
等离子清洗机
中的电极制作原则
答:
电源功率大小选择和你的工艺有关,气压大小,处理物件大小,处理时间等等,你那个15cm也不准确,因为你的极板应该是对应
腔体
的,还和你用多少层电极有关
过氧化氢
等离子
低温灭菌温度多少
答:
40-50℃。医疗机构可以按照灭菌物品的性质选择不同的灭菌方式:对于耐湿、耐热的诊疗器械、器具和物品,应首选压力蒸汽灭菌,对于耐热的油剂类和干粉类等应采用干粉灭菌。不耐热,不耐湿的物品,宜采用低温灭菌方法,如环氧乙烷灭菌、过氧化氢低温
等离子
体灭菌或低温甲醛蒸汽灭菌等。
...从而电离线圈中的空气产生
等离子
体,是在线圈周围产生还是中心?就是...
答:
其实是线的周围,中心的
等离子
是叠加产生的,如果你把线圈放到
真空腔体
里面就能看清楚线圈周围有一层等离子体
磁控溅射的种类
答:
这是因为靶(阴极),
等离子
体,和被溅零件/
真空腔体
可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵,溅射速率很小,同时接地技术很复杂,因而难大规模采用。为解决此问题,发明了磁控反应溅射。就...
太阳能电池片生产工艺,哪位大神可以帮忙?
答:
等离子
体是由带电的电子和离子组成,反应
腔体
中的气体在电子的撞击下,除了转变成离子外,还能吸收能量并形成大量的活性基团。活性反应基团由于扩散或者在电场作用下到达SiO2表面,在那里与被刻蚀材料表面发生化学反应,并形成挥发性的反应生成物脱离被刻蚀物质表面,被
真空
系统抽出腔体。六、镀减反射膜 抛光...
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