一、两者的特点不同：
1、NCVM的特点：NCVM的主要特征是结合了传统真空镀膜技术的特性，采用新的镀膜技术、新的材料，做出普通真空电镀的不同颜色的金属外观效果，起到美化工件表面之功用。
2、PVD的特点：PVD技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。
二、两者的概述不同：
1、NCVM的概述：NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，是一种起缘普通真空电镀的高新技术。真空电镀，简称VM，是vacuum metallization的缩写。
2、PVD的概述：PVD物又称理气相沉积，指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。
三、两者的应用不同：
1、NCVM的应用：电镀技术作为一种功能精饰技术，其合金镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性、致密度高等特点，已在电子产品中获得大量应用。无锡电镀随着电子工业的迅猛发展，对电镀技术的要求越来越高，新技术、新产品、新工艺层出不穷。
2、PVD的应用：发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。
参考资料来源：百度百科-PVD（物理）
参考资料来源：百度百科-物理气相沉积
参考资料来源：百度百科-NCVM不导电电镀
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