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pvd靶材为什么内部有磁铁
pvd靶材为什么内部有磁铁
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第1个回答 2020-07-14
靶材内部不带磁铁,而是靶材的铜背板后面有磁铁,为的是让电子围绕着磁力线行成螺旋状的轨迹来轰击靶材。
第2个回答 2023-04-21
PVD靶材内部的磁铁是为了辅助制备高质量的薄膜。在PVD过程中,靶材表面的原子或分子会被高能粒子轰击后喷出,然后在衬底表面沉积形成薄膜。如果靶材表面不均匀或存在气孔等缺陷,这将导致最终薄膜的质量不佳。而使用内部磁铁可以帮助提高靶材表面的均匀性和平整度,减少可能产生的缺陷,从而得到更高质量的薄膜。此外,磁铁还可以调节靶材表面的离子溅射方向和轨迹,使其更加稳定和可控。
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pvd靶材为什么内部有磁铁
答:
靶材内部
不
带磁铁
,而是靶材的铜背板后面
有磁铁
,为的是让电子围绕着磁力线行成螺旋状的轨迹来轰击靶材。
pvd
镀膜中
靶材
被轰击出来的原子或者分子有没有收到电场,磁场的力学作 ...
答:
在
PVD
过程中,主要使用的技术之一是磁控溅射。在磁控溅射中,一个
带有靶材
的阴极(负极)被置于真空室中,而阳极(正极)则是工件或衬底。在真空室中建立了较高的真空度后,通过施加电压和磁场,阴极上的靶材开始释放出原子或分子。这个过程中,靶材被高能离子轰击,使得靶材表面的原子或分子被解离或溅射...
比较二极直流高频溅射 ,磁控溅射,反应性溅射的主要差别和范围 薄膜技 ...
答:
而由于二级直流溅射,电离溅射气体需要很高的电压,人们把磁铁置入靶材内部,在靶材表面形成磁场
,这样,气体电离后的电子就会被束缚在靶材表面,做螺旋运动。这样,在较多电子轰击溅射气体分子,形成二次电子,有利于溅射气体的电离,形成溅射气体的自维持放电,这样的就叫做磁控溅射。而二级直流溅射电源,一般...
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