1. 光刻机是芯片制造过程中不可或缺的关键设备。根据其应用领域,可以分为几种类别:一类是用于生产芯片的半导体光刻机;另一类是用于芯片封装的光刻机;还有的是专为LED制造设计的投影光刻机。
2. 在半导体芯片生产领域,高端光刻机是中国半导体设备制造的显著短板。目前,国内晶圆厂所需的高端光刻机仍需依赖进口。
3. 光刻机,也被称为掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统,是一种精密设备。在常见的光刻技术中,掩模对准光刻机是应用最广的一种。光刻工艺通常包括硅片清洗、烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等多个步骤。光刻技术利用光来转移掩模上的图形到硅片上的光刻胶上,进而将器件或电路结构临时“复制”到硅片上。
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