我国九十纳米的光刻机,在这个领域水平的应当属于一流水平。
但是还远远比不上国外的水平,毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片,而这一年我国目前还是远远无法做到的。对此我国也正在努力进行追赶,但是短期之内还暂时无法实现,毕竟我国在光刻机这一步起步要远远晚于国外。并且很多技术都已经被国外垄断,我国只能够自主进行设计,期待有一天能够实现弯道超车。
我国芯片水平局限于当前,这个标准与人才有关。我国无法培养出相关方面的人才,毕竟在这一领域内,我国还无法和西方进行比较。尤其是在人才方面根本无法和西方进行对比。这也导致我们没有优秀的工程师,只能够请国外的高薪工程师。但是国外请来的高薪工程师对技术把关非常严格,一般情况下是不会将技术透露给我国工程师,这也导致我国芯片水平局限于当前尴尬的地步。
光刻机的作用:
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机,有用于LED制造领域的光刻机,还有用于封装的光刻机。光刻机是采用类似照片冲印的技术,然后把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。