近年来，中国科技行业受到国外严重打压，尤其是电子芯片成为我国半导体领域最突出的短板。生产芯片最重要的设备是光刻机，世界上先进的光刻机主要由荷兰一家名为阿斯麦（ASML）的公司制造，市场占有率超过80%。其中最先进的极紫外光刻机（EUV光刻），全世界只有ASML一家公司能制造。ASML虽然是一家荷兰的公司，但出口光刻机受到西方国家的严格控制。ASML的大股东包括美国因特尔、台湾积体电路制造（台积电）、韩国的三星、荷兰皇家飞利浦电子公司等等。ASML的股份结构相当复杂，国际上众多大公司参股，使得ASML形成一个庞大的利益共同体。然而，ASML受到《瓦森纳协定》的约束，中国也是被该协定限制的国家之一，一些敏感的设备和技术无法出口到中国。
光刻机是当今世界科技领域的集大成者，是人类当前科技的巅峰产物。ASML之所以能制造最先进的光刻机，也是因为特殊的股权结构，使得ASML能汇集当前各项前沿科技，整合各种零部件。一台光刻机重达几十吨，包含十多万个零部件，每台机器从下单到交付要21个月，单价格超过1亿美元。即便如此，购买者仍然排着长队。数据显示，ASML在2017年交付了12台光刻机，2018年18台，2019年26台，预计2020年达到35台。
电子芯片的发展历程可以追溯到1946年，第一台电子计算机诞生于美国宾夕法尼亚大学。当时研究人员使用了18000个电子管、1万多个电阻和电容、6000多个开关，总重量30多吨，启动时功率高达150千瓦，运算能力为每秒5000次。然而，如今几块钱的掌上计算器的运算能力远远超过当时的电子计算机。芯片的发明者是美国人杰克·基尔比，他在2000年因此获得诺贝尔奖。杰克·基尔比1947年毕业于美国伊利诺斯大学，然后就职于德州仪器，担任研发工程师。他的创新想法是把所有的元器件弄到一块材料上，并相互连接成电路。利用杰克·基尔比发明的芯片，我们可以把一台几十吨的计算机“装进”一个指甲盖大小的体积内，而且运算速度大幅提高，功耗大幅降低。
光刻机的基本原理并不是机密，但其中的零部件不是谁都能制造的，以至于外国人对我们说“即便把光刻机的所有图纸给你们，你们也造不出来光刻机。”制造芯片首先需要用到的材料就是高纯度硅，然后把硅切片得到晶圆，接下来就是高精度的晶圆加工，也是光刻机中的核心技术。光刻机原理并不难，但要生产其中的零件并不容易。光刻机的关键技术物镜制造技术也是一项难以攻克的技术难关。光刻机中的光源也是一项难以攻克的技术难关。对于深紫外光（DUV）刻，使用的光源波长是193nm，这是光刻机中的一个技术分水岭，芯片发展曾经在193纳米光源停滞了十多年的时间，后来浸没技术缩短波长，加上各项技术的改进，最终193nm光源可以把芯片制程推进到28nm，这也是深紫外光刻的极限。极紫外光刻（EUV）使用波长更短的激光（13.5nm），相对于深紫外光刻，需要重新研发刻蚀材料、光刻胶、刻蚀工艺等等，对精度的要求进一步提高，目前只有荷兰ASML一家公司能制造极紫外光刻机。在这样的情况下，中国芯片产业的发展举步维艰，光刻机包含的关键技术太多，一时半会我们是绕不过去的。
温馨提示：答案为网友推荐，仅供参考