硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl 3 )还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下: ①写出由纯SiHCl 3 制备高纯硅的化学反应方程式____________________。②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl 3 遇水剧烈反应生成H 2 SiO 3 、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式____________________;H 2 还原SiHCl 3 过程中若混有O 2 ,可能引起的后果是____________________。(2)下列有关硅材料的说法正确的是 ( )。A.单质硅化学性质稳定,但可以被强碱溶液腐蚀B.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高D.光导纤维的主要成分是SiO 2 (3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入盐酸,振荡。写出实验现象并给予解释(用化学方程式说明)_________________________ ____。(4)在人体器官受到损伤时,需要使用一种新型无机非金属材料来植入体内,这种材料是________(填字母)。A.高温结构陶瓷 B.生物陶瓷 C.导电陶瓷
(1)①SiHCl 3 +H 2 ②SiHCl 3 +3H 2 O=H 2 SiO 3 +H 2 ↑+3HCl↑ 高温下,H 2 遇O 2 可能会引起爆炸;O 2 可能会氧化SiHCl 3 (2)AD (3)生成白色絮状沉淀,Na 2 SiO 3 +2HCl=2NaCl+H 2 SiO 3 ↓ (4)B |