光刻机可以刻几层

Question

如题所述

Answer 1

光刻机刻制芯片，根据芯片的设计需求，可以刻制少到几层，多到几十层甚至上百层。

通常情况下，28nm的IC最多可使用50层光罩，14nm/10nm的IC使用60层光罩，7nm有80层光罩，5nm则达到100层光罩。台积电在7nm芯片上中的12层使用EUV，68层都使用DUV。在5nm节点，台积电将EUV 用于其中22层，其余78 层则是DUV。

Answer 2

光刻机刻制芯片，根据芯片的设计需求，可以刻制少到几层，多到几十层甚至上百层。

Answer 3

中国国家纳米研究所研究员张子和刘前早前发表的一篇论文中层提到，中国研发团队已经成功设计并且开发了新型的3层堆叠薄膜结构，因此可以刻3层。由此可预见，中国攻克5纳米光刻机指日可待。