Astrileux的EUV光刻技术能用于太空芯片制造吗？

Question

如题所述

Answer 1

美国成功试验宇宙EUV光刻技术，太空建晶圆厂成为可能
国际空间站的历史性突破显示，2020年11月，宇航员在国际空间站上进行的EUV光刻实验预示着太空高级芯片制造的曙光。诺斯罗普格鲁曼公司的天鹅座飞船搭载Astrileux的有效载荷，进行了旨在验证EUV涂层捕获太阳EUV辐射的实验，这些材料可用于构建13.5nm波长的光刻工具的光学器件和反射镜。

实验结果证实，Astrileux的EUV涂层能够有效捕获太阳EUV辐射，为未来基于EUV的空间光刻技术奠定了基础，这种技术利用太阳辐射作为光源。在国际空间站的极端环境下，这些新型EUV光学涂层展现了其耐辐射性的优势。

Astrileux首席执行官Supriya Jaiswal指出，随着太空探索需求的增长，建造小型或微型晶圆厂在太空中变得可行。这需要航天器或殖民地具备3D打印和光刻技术，而Astrileux与太空科学发展中心和纳米舱等机构合作，正在推动这一前沿科技的发展。

例如，Astrileux有效载荷成功捕捉了13.5nm的EUV光刻波长，这有望缩短在太空中的晶圆图形化时间，从传统上百天缩短至不到10小时。这为太空社区内的本地化制造提供了新思路，如增强计算能力的智能设备制造和电子设备的快速修复。

未来，这些新型EUV光学涂层将应用于多种太空仪器，如太阳辐射成像、望远镜和星系统，以及为7nm及以下的太空电子制造打下基础。Astrileux的创新不仅推进了太空技术的边界，也为地球上的EUV光刻技术提供了新的可能，如7nm和5nm的生产，甚至3nm的研发。