euv是什么技术

如题所述

1. EUV光刻技术与DUV光刻技术相比较,不仅在于其能够制造更小尺寸的成品,还在于它在成本、效率和可持续性等方面的显著优势。
2. EUV技术在芯片制造过程中,能将数据传输速率提高约30%,同时提升芯片的性能和功耗比。
3. 由于这些优势,EUV光刻技术对于当前和未来的芯片制造至关重要。
4. EUV光刻技术在半导体制造领域的应用范围广泛,涵盖移动通信、物联网、智能电视、保安系统等多个领域。
5. 这项技术能够制造出非常小巧的芯片,使得智能手机、平板电脑和电子书等智能设备的功能更具竞争力。
6. 极紫外光刻(Extreme Ultra-violet),通常称为EUV光刻,是一种使用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术,具体为采用波长为13.4nm的紫外线。
7. 极紫外光刻是一种使用极紫外波长的下一代光刻技术,其波长为13.5纳米,预计将于2020年得到广泛应用。
8. 几乎所有的光学材料对13.5nm波长的极紫外光都有很强的吸收,因此,EUV光刻机的光学系统只能使用反射镜。
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