三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产流程示意图如下：（1）SiO2与碳反应生成碳

Question

三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．生产流程示意图如下：（1）SiO2与碳反应生成碳的低价化合物，其方程式为______（2）上述生产流程中可循环使用的物质是______和______（3）上述4步中，是氧化-还原反应的是（填序号）______．

Answer 1

（1）SiO₂与碳反应生成碳的低价化合物，根据质量守恒定律，碳的低价化合物应是一氧化碳，反应的化学方程式是：2C+SiO₂

高温  .

Si+2CO↑．
（2）上述生产流程中由粗硅到三氯甲硅烷和由三氯甲硅烷到高纯硅是两个相反的过程，因此，这些过程中，H₂、HCl可以循环使用；
（3）在①②④的反应中都有单质参加反应，一定有化合价的变化，都属于氧化-还原反应．
故答为：（1）2C+SiO₂

高温  .

Si+2CO↑；（2）HCl，H₂； （3）①②④．