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射频磁控溅射原理
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作
原理
是什么?
答:
1. 直流磁控溅射:直流磁控溅射是最基本的磁控溅射方式。其工作原理是,
利用直流电源对靶材加正电压,产生离子轰击
,同时在靶材表面施加磁场进行引导,使得离子轰击靶材表面时产生的原子或分子向衬底沉积。这种技术适合制备金属薄膜和多元化合物薄膜。2. 射频磁控溅射:
射频磁控溅射是利用高频交流电源产生电场
,...
磁控溅射
的
原理
?
答:
磁控溅射原理:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面
,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时镀膜、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正离...
射频磁控溅射原理
答:
射频磁控溅射制备薄膜是一种很成熟的技术,起源于上世纪70年代
。通俗的讲就是在真空的状态下,将要溅射的元件等离子化,然后把这种等离子的类气体涂在薄膜上。也可以把坚硬的物资涂到柔性物体上去。这些书只有到科技书店才找到了。
什么是
磁控溅射
?
答:
磁控溅射是一种物理气相沉积(PVD)工艺,属于真空沉积工艺的一种
。这个过程需要一个高真空室来为溅射创造一个低压环境。首先将包含等离子体的气体(通常为氩气)进入腔室。在阴极和阳极之间施加高负电压以启动惰性气体的电离。来自等离子体的正氩离子与带负电的靶材碰撞。高能粒子的每次碰撞都会导致目标表面...
急!急。。。
磁控溅射
镀膜机的工作
原理
,有谁知道啊?
答:
磁控溅射原理
:
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片
。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子...
直流溅射,直流磁控溅射,
射频磁控溅射
有什么区别
答:
磁控溅射
是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法。它是在二极直流溅射的基础上,在靶表面附近增加一个磁场。电子由于受电场和磁场的作用,做螺旋运动,大大提高了电子的寿命,增加了电离产额,从而放电区的电离度提高,即离子和电子的密度增加。放电区的有效电阻变小,电压下降。另外放电区集中在靶表面,放电...
直流磁控溅射
射频磁控溅射
不同的原因
答:
不适于绝缘材料,因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和,这将导致靶面电位升高,外加电压几乎都加在靶上,两极间的离子加速与电离的机会将变小,甚至不能电离,导致不能连续放电甚至放电停止,溅射停止。故对于绝缘靶材或导电性很差的非金属靶材,须用
射频溅射
法(RF)。
直流(DC)
磁控溅射
、中频(MF)磁控溅射、
射频
(RF)磁控溅射分别有什么特点...
答:
中评交流
磁控溅射
可用在单个阴极靶系统中,工业上一般使用孪生靶溅射系统;靶材利用率最高可达70%以上,靶材有更长的使用寿命,更快的溅射速率,杜绝靶材中毒现象.3.射频(RF)磁控溅射
射频溅射
特点 - 射频方法可以被用来产生溅射效应的原因是它可以在靶材上产生自偏压效应.在射频溅射装置中,击穿电压和放电电压...
什么是
射频磁控溅射
法
答:
1 直流和
射频
是对加在靶上的电源所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面,射频是具有一定的频率(13.56MHz)间隔加在靶上的。详细解释只能去看书,还不让粘贴,没人会找本书来给你慢慢敲在这里 2 这个说法不对。直流
磁控溅射
只能用导电的靶材(靶材表面在空气中或者溅射过程中不会...
关于
溅射
靶材,镀膜材料类的产品 ,刚开始接触,如何熟悉产品 ,从哪方 ...
答:
磁控溅射原理
:在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电子,靶上加有一定的负高压,从靶极发出的电子受磁场的作用与工作...
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