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磁控溅射镀膜步骤
磁控溅射
如何制作DLC膜层???
答:
第一种:磁控溅射法,用于工具镀膜,
需要先打底,如CrN, 然后用石墨靶溅射,最后还有通入C2H2 ,才能最终得到SP3结构的DLC
。最好用中频电源;第二种:PACVD,同样用于工具镀膜,也要用铬靶打底,镀DLC时,通入反应气体,靶只是作为一个电极来用,并不溅射。甚至有用射频电源;第三种:生物DLC, 是透明...
产品
溅镀
工艺流程?
答:
1. **清洁和预处理**:首先,需要对待
镀膜
的基材进行清洁和预处理,以去除表面的污染物和氧化层。这通常通过超声清洗、酸洗、等离子体清洗等方法进行。2. **真空抽气**:然后,将基材放入
溅射
设备的真空室中,并抽取空气,以达到所需的真空度。这可以通过机械泵和分子泵等设备进行。3. **气体充入...
真空电镀--
磁控溅射镀膜
技术
答:
磁控溅射镀膜
技术,一门精密的表面处理工艺,通过精确操控真空环境与粒子运动,为我们揭示了一种独特的材料沉积过程。首先,让我们深入探讨其核心原理:创造真空环境:在经过精心调节的真空chamber(腔体),压力通常控制在2到5×10-5托(2到5帕),氩气(Ar)如箭般注入,开启直流电源,电离过程由此展开。
磁控溅射
技术工艺是怎样的?
答:
也不需喷面漆(不需要投资喷涂设备),在镀完铝膜后直接镀一层保护膜。
滴1%NaOH溶液10分钟铝层不腐蚀,去离子水中浸饱96小时铝层不脱落
。磁控溅射镀膜设备及技术介绍a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术,靶材利用率达到70~80%以上,基体镀膜均匀,...
溅射的
溅射镀膜
技术的应用
答:
如果采用金属Cr靶,在N 2 气氛中进行非平衡
磁控溅射镀膜
,可以在工件上镀覆Cr、CrN X 等镀层,代替水溶液电镀用于旋转轴和其它运动部件。3. 制备切削刀具和模具的超硬膜采用普通化学气相沉积技术制备TiN、TiC等超硬镀层,温度要在1000 ℃ 左右,这已经超过了高速钢的回火温度,对于硬质合金来说还可能使...
磁控溅射镀膜
靶材怎么接线的
答:
在
磁控溅射镀膜
过程中,靶材需要通过一个适当的接线方式连接到电源上。下面是一般
步骤
和注意事项:1. 靶材安装:首先将靶材安装到磁控溅射设备上的靶架或支撑结构上。这个结构通常由导电材料(例如不锈钢)制成,以确保良好的电气连接。2. 接线方法:将一个接地的导线连接到系统合适位置的接地端以保持靶材...
为什么靶材是阴极
答:
在
溅射
过程中,靶材上的原子会被带正电的氦离子碰撞,而氦离子所带的正电,由于一定是飞向阴极(也就是常规说的负极),所以称靶材为阴极。PS氦原子在真空环境里,被电弧激发(一次激发,或者二次)失去一个电子,形成阳离子,迁移过程中,成为溅射中持续的流向阴极“电流”。
磁控溅射镀膜
之前要对试样进行怎样的预处理
答:
首先你要
溅射镀膜
的试样材料不同,清洗方式也就不同。如果你的试样是金属基片,大多数用丙酮酒精或其他化学试剂超声清洗,再用去离子水超声清洗,最后通过氮气吹干或者烘箱烘干,如果你的试样是普通载玻片,可用去污粉进行刷洗,直至形成完整水膜后用热去离子水超声清洗,在吹干。
磁控溅射
原理
答:
如图所示,采用强磁铁控制的溅射称为
磁控溅射
。磁控溅射优点 (1)沉积速率快,沉积效率高,适合工业生产大规模应用;(2)基片温度低,适合塑料等不耐高温的基材
镀膜
;(3)制备的薄膜纯度高、致密性好、薄膜均匀性好、膜基结合力强;(4)可制备金属、合金、氧化物等薄膜;(5)环保无污染。
想用
磁控镀膜
机(
溅射
式)做塑料制品的镀膜,请问有什么要注意的?_百度知 ...
答:
磁控溅射镀膜
本身膜的致密性还可以,要注意的如下:1.设备和治工具的清洁度要好 2.设备内不许有油和水气 3.冷冻机要开 4.真空度要抽低点(1.5E-3Pa以下)5.第一层镀的药材要与塑料的结合力要好 6.蒸发速率不宜过快过低 7.基板加热不易过高 以上希望可以帮到你 ...
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