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磁控溅射靶材利用率
磁控溅射
的
利用
效率
答:
为了提高靶材利用率,研究出来了不同形式的动态靶,其中以旋转磁场圆柱靶最著名且在工业上被广泛应用,
据称这种靶材的利用率最高可超过70%
,但缺少足够数据或理论证明。常见的磁控溅射靶材从几何形状上看有三种类型:矩形平面、圆形平面和圆柱管如何提高利用率是真空磁控溅射镀膜行业的重点,圆柱管靶利用高,...
如何提高
磁控溅射靶材利用率
答:
1. 优化磁场设计:通过优化磁控溅射设备中的磁场设计,可以改善靶材的溅射分布,从而提高靶材的利用率
。这可以通过调整磁极间距、磁场强度、磁场分布等参数实现。2. 采用圆柱靶或旋转靶:相比平面靶,圆柱靶或旋转靶在磁控溅射过程中可以实现更高的靶材利用率。这是因为圆柱靶或旋转靶在溅射过程中可以实现更...
直流(DC)
磁控溅射
、中频(MF)磁控溅射、射频(RF)磁控溅射分别有什么特点...
答:
中评交流磁控溅射可用在单个阴极靶系统中,工业上一般使用孪生靶溅射系统;
靶材利用率最高可达70%以上
,靶材有更长的使用寿命,更快的溅射速率,杜绝靶材中毒现象.3.射频(RF)磁控溅射 射频溅射特点 - 射频方法可以被用来产生溅射效应的原因是它可以在靶材上产生自偏压效应.在射频溅射装置中,击穿电压和放电电压...
磁控溅射
的种类
答:
为增大
靶材利用率
,可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构,同时
溅射
速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备,多用磁场静止靶源。用
磁控
靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶(阴极),等离子体,和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅...
关于
磁控溅射靶材
的问题
答:
2.一般
磁控溅射
可以分为直流(二级)溅射、中频、射频。直流溅射电源便宜,沉积膜层致密度较差,一般国内光热、薄膜电池选择使用的方法,能量较低,
溅射靶材
为金属靶材。射频能量较高,一般溅射陶瓷靶材。中频两者之间,溅射靶材也为金属靶材。3.金属
靶材溅射
过程中,具有溅射速率和沉积速率。溅射速率是靶材...
磁控溅射
技术的应用有哪些方面
答:
不需喷底漆,也不需喷面漆(不需要投资喷涂设备),在镀完铝膜后直接镀一层保护膜。滴1%NaOH溶液10分钟铝层不腐蚀,去离子水中浸饱96小时铝层不脱落。
磁控溅射
镀膜设备及技术介绍a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外最先进的磁控溅射镀膜技术,
靶材利用率
达到70~80%以上,...
钛靶用强磁
溅射
与弱磁溅射有什么区别?
答:
3.
靶材利用率
:强磁场条件下,靶材的利用率可能会降低。这是因为较强的磁场会导致靶材表面的溅射区域更加集中,从而增加靶材的局部磨损。而在弱磁场条件下,靶材利用率可能会相对较高。4. 系统复杂性:强磁溅射系统通常比弱磁溅射系统更复杂。为了实现较强的磁场,可能需要使用更复杂的
磁控溅射
设备,例如...
真空镀膜原理(里面用到中频··多弧的)
答:
一般磁控靶的
靶材利用率
小于20%,经过特殊处理磁场的
磁控溅射靶
的靶材利用率可以达到40-50%左右。要想使靶材利用率进一步提高,只有采取垂直移动磁场的设计方案,即使如此,靶材利用率提高到75%以上仍然是相当困难的(特别对于矩形平面靶来说)。转动靶材的柱状靶虽然有较高的靶材利用率(大约80%左右),考虑到运行稳定性和...
磁控溅射
法的优势特点
答:
薄膜质量好:
磁控溅射
能够制备出均匀且连续性好的薄膜,这对于很多应用来说是非常重要的。材料
利用率
高:这种方法相比传统的溅射技术,可以更充分地利用目标材料,减少浪费。可控性强:通过调节磁场和电源参数,可以精确控制薄膜的厚度和其他特性。适应性强:适用于多种材料,无论是金属、陶瓷还是塑料,都...
蒸发镀膜和
溅射
镀膜的优缺点
答:
功率效率:</ 通常在600V的电压下,
磁控溅射
具有高效能,避免了高能量离子对基材的损伤。 基片温度低:</ 通过阳极导电,减少基材受热,适用于对温度敏感的塑料等材料。
靶材利用率
:</ 通过优化磁场分布或磁铁运动,提高靶材的使用效率。 复合靶与广泛元素应用:</ 能够镀制多种合金膜,如Ta...
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