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离子溅射镀膜
真空
镀膜
常用方法有真空蒸发和
离子溅射
,分别作用是?
答:
真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射.真空蒸发镀膜是在真空度不低于 10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜.
离子溅射镀膜
是利用气体放电产生的...
什么是光学镜头
离子溅射
法
镀膜
?
答:
本期将继续介绍光学镜头
镀膜
的另一种方法——
离子溅射
法。在镀膜技术中,溅射是指从固体靶材上去除颗粒,为此,在真空中的等离子体中产生高能离子,并通过外部电场在目标方向上加速。离子与目标原子碰撞并形成撞击级联。如果超过约 20eV 的最小能量,则去除目标材料。一些粒子离开目标并移向基板,并在基板...
离子
束
溅射镀膜
设备的优缺点是什么?
答:
一、
离子
束溅射的优点 1、
溅射镀膜
是依靠动量交换作用使固体材料的原子、分子进入气相,溅射出的平均能量10eV,高于真空蒸发粒子的100倍左右,沉积在基体表面上之后,尚有足够的动能在基体表面上迁移,因而薄膜质量较好,与基体结合牢固。2、任何材料都能溅射镀膜,材料溅射特性差别较其蒸发特性差别小,即使...
离子
束
溅射镀膜
设备的优缺点是什么? 更适合做什么薄膜材料?
答:
缺点:1、一般镀膜速率较慢,几十埃每秒;2、
离子
源清理和中和器灯丝更换较频繁;3、不适宜制备较大面积薄膜;除有机材料和易分解的材料,一般都可以用离子束
溅射镀膜
,氧化物膜层的制备需要辅助通氧。
光学
镀膜
“真空
溅射
”和“
离子
镀”工作方法
答:
在光学
镀膜
中,真空
溅射
和
离子
镀是两种常用的物理气相沉积(PVD)技术,它们都是在真空环境下工作,通过将目标材料的原子或分子转移到基板上,从而形成薄膜。真空溅射**:真空溅射主要是利用离子束(通常是惰性气体,如氩)轰击目标材料,使得目标材料的原子被"溅射"出来,这些原子会穿过真空室并沉积在基板...
真空
离子镀膜
镀咖啡色的方法有哪些
答:
1、
溅射镀膜
法:在真空环境下,将目标材料加热或用
离子
轰击后,释放出的原子或离子沉积在基材表面形成薄膜。可以选择使用含有咖啡色成分的材料作为目标材料,如含铜的目标材料,可以沉积出咖啡色的薄膜。2、磁控溅射法:这是一种基于溅射原理的真空镀膜技术,通过在真空环境中加入气体,形成等离子体,用磁场...
请教一下这种
离子镀膜
方式具体是哪一种?O(∩_∩)O谢谢
答:
[1]目前离子镀的种类是多种多样的。镀料的气化方式以及气化分子或原子的离化和激发方式有许多类型; 不同的蒸发源与不同的离化激发方式又可以有许多种的组合。实际上,许多
溅射镀
从原理上看可为离子镀,亦称
溅射离子
镀,而一般说的离子镀常指采用蒸发源的离子镀。
离子镀膜
的基本过程包括镀料蒸发、离...
“pvd”是什么意思?
答:
PVD(Physical Vapor Deposition):物理气相沉积,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。一般用来表面改性或镀涂层。包括真空蒸镀、离子溅射、离子镀等。①
离子溅射镀膜
技术:...
产品
溅镀
工艺流程?
答:
1. **清洁和预处理**:首先,需要对待
镀膜
的基材进行清洁和预处理,以去除表面的污染物和氧化层。这通常通过超声清洗、酸洗、等
离子
体清洗等方法进行。2. **真空抽气**:然后,将基材放入
溅射
设备的真空室中,并抽取空气,以达到所需的真空度。这可以通过机械泵和分子泵等设备进行。3. **气体充入...
离子
镀与蒸镀和
溅射镀
的根本区别是什么
答:
真空溅镀,是真空
溅射镀膜
的简称,是一种物理镀膜的方法.真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空
离子
蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸...
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