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什么是磁控溅射
磁控溅射
中靶中毒是怎么回事,一般的影响因素是
什么
答:
靶表面金属原子
溅射
比较容易,当把表面变为金属氧化物再溅射就不容易。一般需要射频溅射。离子轰击使靶表面金属原子变得非常活泼,加上靶温升高,使靶表面反应速率大大增加。这时靶面同时进行着溅射和反应生成化合物两种过程。如果溅射速率大于化合物生成率,靶就处于金属溅射态;反之,反应气体压强增加或金属...
磁控溅射
TiN薄膜硬度高的原因是
什么
?
答:
您好,如果它的硬度比较高的话,那么应该是它的材料问题。本身他对硬度的要求应该就是比较高,所以才会使用相关的材料。
磁控溅射
镀膜中 氧气 氩气 氮气 分别起
什么
主要作用
答:
电镀是电化学反应,在电镀池中装有电解质溶液,此电解质溶液含有镀层金属的离子,通电后,由于待镀件接的电源的负极,因此待 镀件 表面聚集大量的带正电荷的镀层金属离子即待镀件被带正 电荷的离子包围并 在此得到电子,成为原子沉积下来,镀层金属原子失去电子变为离子进入电解质溶 液中,此电子转移的...
磁控是什么
意思?
答:
利用电磁铁来控制设备。
磁控
管通常工作在π 模,相邻两个谐振腔腔口处微波电场相位正好相差180°,即微波电场方向正好相反(图2)。虽然这种微波场为驻波场,但在π模的情况下,相当于两个相同的微波场在圆周上沿相反的方向运动,两个场的相速值相等。从阴极发射出的电子在正交电磁场作用下作轮摆线运动...
磁控溅射
,电流没问题,电压加不上去(最大60v)是
什么
原因?
答:
纯金属的二次电子发射系数要低一些,
溅射
电压高是正常现象,靶表面溅干净就好了,如果一直没有变化,要查一下系统漏气。一般情况下化合物的二次电子发射系数高于纯金属,因此同样条件下,靶表面有氧化物与干净的金属靶面相比溅射电压要低,还是要在纯氩条件下把靶表面化合物溅射干净后,溅射电压就会升高至...
磁控溅射
镀膜中 氧气 氩气 氮气 分别起
什么
主要作用?
答:
1.镀金属膜时,一般用氩气作为工作气体,它是惰性气体,在真空状态下加热基片时不会发生氧化作用。2.氧气一般用于镀非金属膜,如TiO2,不必担心镀好膜后发生膜氧化现象。3.氮气是在换靶镀膜时往真空室冲入的气体,让真空室内压强和大气压强保持相等,才能开盖换靶镀另一层膜。可能解释还不是很清楚,...
求助:直流
磁控溅射
靶材被穿透,会有
什么
现象啊?
答:
电压下降,不管怎么升电流电压就那么一点,不要问我怎么知道,今天中午就穿了
威固,3M,量子,琥珀光学汽车膜品牌有
什么
区别
答:
一、优势不同 1、威固 威固隔热膜使用了超级透明的高等级聚合物,与一些贵金属(比如金、银、氧化铟)等共同作用,一个分子一个分子地溅射处理而成。据资料显示,生产该膜的多涂层
磁控溅射
机价值2400万美元。这样生产出来的薄膜具有很高的可见光透过率和良好的红外线与紫外线阻隔率,是使用陈旧工艺生产...
磁控溅射
靶材是按照
什么
来进行分类的?
答:
靶材的分类方法很多.根据材料的种类,靶材包括金属及合金靶材、无机非金属靶材和复合靶材等.无机非金属靶材又分为氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同种类.根据不同的几何形状,靶材分为圆靶和矩形靶.目前最常用的分类方法则根据靶材的应用进行划分,主要包括半导体领域应用靶材、记录介质用靶材、显示薄膜用...
磁控溅射
中发生电子击伤是
什么
原因
答:
据我这生产推测认为,
溅射
粒子中部分带正电荷,沉积到基底中会造成电荷积累,如果基底是绝缘体,电荷不会马上被通过偏压电源导走,电荷积累到一定程度会形成放电,会对基底有一定的损伤,,,但损伤来源不是你题目中提到的电子,电子由于电场相对关系,应该是向0电位的炉壁中积累并被接地导走。
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