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磁控溅射靶材是按照什么来进行分类的?
最常用的靶材分类方法是根据什么来分的?
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推荐答案 2021-12-17
靶材的分类方法很多.
根据材料的种类,靶材包括金属及合金靶材、无机非金属靶材和复合靶材等.
无机非金属靶材又分为氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同种类.
根据不同的几何形状,靶材分为圆靶和矩形靶.
目前最常用的分类方法则根据靶材的应用进行划分,主要包括半导体领域应用靶材、记录介质用靶材、显示薄膜用靶材、光学靶材、超导靶材等.来自:求助得到的回答
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其他回答
第1个回答 2023-04-04
根据靶材的化学成分和材料,溅射靶材可分为金属/非金属单一物质靶材、合金靶材、陶瓷/复合靶材等。靶的形状有长靶、方靶、圆靶和管靶。
相似回答
磁控溅射的分类
都有哪些?
答:
磁控溅射是一种制备薄膜的技术,主要用于生产具有不同特性和功能的薄膜材料,
包括金属、陶瓷、半导体等
。磁控溅射可分为以下几种类型:1. 直流磁控溅射(DC Magnetron Sputtering):在直流电场下,通过以靶材为阴极的方式,产生靶材表面的离子化,再将离子加速后轰击基板,形成相应的薄膜。2. 射频磁控溅射...
磁控溅射的
种类
答:
所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
靶源分平衡和非平衡式,平衡式靶源镀膜均匀,非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强
。平衡靶源多用于半导体光学膜,非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同,大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等,...
磁控溅射的
技术
分类
答:
溅射方法很多,
主要有二级溅射
、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。由于被溅射原子是与具有数十电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的,因而溅射出来的原子能量高,有利于提高沉积时原子的扩散能力,提高沉积组织的致密程度,使制出...
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