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磁控溅射镀膜中 氧气 氩气 氮气 分别起什么主要作用?
如题所述
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推荐答案 推荐于2018-09-22
1.镀金属膜时,一般用
氩气
作为工作气体,它是
惰性气体
,在真空状态下加热基片时不会发生氧化作用。2.氧气一般用于镀非金属膜,如TiO2,不必担心镀好膜后发生膜氧化现象。3.氮气是在换靶镀膜时往真空室冲入的气体,让真空室内压强和
大气压强
保持相等,才能开盖换靶镀另一层膜。
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其他回答
第1个回答 2011-12-31
电镀是电化学反应,在电镀池中装有电解质溶液,
此电解质溶液含有镀层金属的离子,通电后,由于待镀件接的电源的负极,因此待
镀件 表面聚集大量的带正电荷的镀层金属离子即待镀件被带正 电荷的离子包围并
在此得到电子,成为原子沉积下来,镀层金属原子失去电子变为离子进入电解质溶
液中,此电子转移的过程,也就是氧化-还原反应。
所以氧气是保证更好的进行这个反应,而氮气氩气是保护为主。
本回答被网友采纳
第2个回答 2012-02-21
氩气是工作气体,它属于惰性气体不与其它气体产生反应,氧气和氮气是反应气体,
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和
氧气的作用各
是
什么
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答:
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,磁控溅射想工作必须得通入氩气的,而氧气是工艺气体,比如你想镀SiO2,那么你要使用Si靶,然后通入氩气,这时候溅射出来的是Si,而你同时通入氧气的话,那么所镀膜层就变为SIO2了,因为SI离子和氧离子反...
磁控溅射镀膜中
各种动量之间的关系(做的是消影TP)
答:
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