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直流磁控溅射镀膜特点
磁控溅射
法的优势
特点
答:
目前最常用的制备CoPt 磁性薄膜的方法是
磁控溅射
法。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面,将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间,便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。磁控溅射法具有
镀膜
层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。
直流磁控溅射
和射频磁控溅射的区别到底是什么啊
答:
20世纪70年代开始发展了
磁控溅射
技术,它的
特点
是溅射电压大大下降,溅射速率明显提高,另外溅射气压可以较低,通常在0.5Pa。磁控溅射是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法。它是在二极
直流溅射
的基础上,在靶表面附近增加一个磁场。电子由于受电场和磁场的作用,做螺旋运动,大大提高了电子的寿命,增加了...
溅射
分哪几种?
答:
射频
磁控溅射
一般都是针对绝缘体的靶材或者导电性相对较差的靶材,利用同一周期内电子比正离子速度快进而沉积到靶材上的电子数目比正离子数目多从而建立起自偏压对离子进行加速实现靶的溅射。两种方式的
特点
:1、
直流溅射
:对于导电性不是很好的金属靶,很难建立较高的自偏压,正离子无法获得足够的能量去轰击...
磁控溅射
膜 是什么意思 另外 是不是 金属膜都是采用磁控溅射技术的
答:
一、
磁控溅射
膜 1、磁控溅射隔热膜又称磁控溅射金属膜,采用多层磁控溅射工艺打造而成,以持久反射隔热的出色性能而著称。由于其高清晰、高隔热、高稳定、低内反光、色泽纯正、永不退色、使用寿命长等众多
特点
,一度被广泛用于汽车玻璃贴膜、建筑玻璃贴膜。2、磁控溅射技术在薄膜制造领域中的应用十分广泛,...
直流磁控溅射
与射频磁控溅射区别是什么?
答:
射频
磁控溅射
一般都是针对绝缘体的靶材或者导电性相对较差的靶材,利用同一周期内电子比正离子速度快进而沉积到靶材上的电子数目比正离子数目多从而建立起自偏压对离子进行加速实现靶的溅射。两种方式的
特点
:1、
直流溅射
:对于导电性不是很好的金属靶,很难建立较高的自偏压,正离子无法获得足够的能量去轰击...
什么是
磁控溅射
?
答:
磁控溅射
是一种物理气相沉积(PVD)工艺,属于真空沉积工艺的一种。这个过程需要一个高真空室来为溅射创造一个低压环境。首先将包含等离子体的气体(通常为氩气)进入腔室。在阴极和阳极之间施加高负电压以启动惰性气体的电离。来自等离子体的正氩离子与带负电的靶材碰撞。高能粒子的每次碰撞都会导致目标表面...
磁控溅射
分为哪两大类?
答:
射频
磁控溅射
一般都是针对绝缘体的靶材或者导电性相对较差的靶材,利用同一周期内电子比正离子速度快进而沉积到靶材上的电子数目比正离子数目多从而建立起自偏压对离子进行加速实现靶的溅射。两种方式的
特点
:1、
直流溅射
:对于导电性不是很好的金属靶,很难建立较高的自偏压,正离子无法获得足够的能量去轰击...
磁控溅射
原理
答:
磁控溅射
原理:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时
镀膜
、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正...
磁控溅射
的原理?
答:
磁控溅射
原理:用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞测出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为测时
镀膜
、通堂是利用气体放电产生气体电离,其正...
磁控溅射
技术的应用有哪些方面
答:
在ABS,PC,PBT,PE,PP,PA66等塑料基体上直接镀膜,不需喷底漆,也不需喷面漆(不需要投资喷涂设备),在镀完铝膜后直接镀一层保护膜。滴1%NaOH溶液10分钟铝层不腐蚀,去离子水中浸饱96小时铝层不脱落。
磁控溅射镀膜
设备及技术介绍a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外最先进的磁控溅射...
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