33问答网
所有问题
当前搜索:
直流磁控溅射镀膜特点
磁控溅射
是
直流
还是射频?
答:
磁控溅射可以是直流也可以是射频。
直流磁控溅射
一般用于导电型(如金属)靶材的溅射,射频一般用于非导电型(如陶瓷)靶材的溅射。直流磁控溅射利用的是直流辉光放电,初始电子加速碰撞Ar形成氩离子和另一个电子 (α过程),而氩离子在电场作用下加速碰撞阴极 (靶材)也会形成二次电子发射 (γ过程),当放电...
磁控溅射
技术的简介
答:
磁控溅射的基本原理是利用 Ar一O2混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面,能量交换后,靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜。磁控溅射的
特点
是成膜速率高,基片温度低,膜的粘附性好,可实现大面积
镀膜
。该技术可以分为
直流磁控溅射
法和射频磁控...
磁控溅射镀膜
机的工作原理是什么?
答:
磁控溅射的基本原理是利用 Ar一02混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面,能量交换后,靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜。磁控溅射的
特点
是成膜速率高,基片温度低,膜的粘附性好,可实现大面积
镀膜
。该技术可以分为
直流磁控溅射
法和射频磁控...
急!急。。。
磁控溅射镀膜
机的工作原理,有谁知道啊?
答:
磁控溅射的基本原理是利用 Ar一02混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面,能量交换后,靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜。磁控溅射的
特点
是成膜速率高,基片温度低,膜的粘附性好,可实现大面积
镀膜
。该技术可以分为
直流磁控溅射
法和射频磁控...
溅射镀膜
和蒸发镀膜有什么区别?
答:
溅射过程建立在辉光放电的基础上,即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。
直流
二极溅射利用的是直流辉光放电;三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电;射频溅射是利用射频辉光放电;
磁控溅射
是利用环状磁场控制下的辉光放电。
溅射镀膜
与真空蒸发镀膜相比,有许多优点。如任何...
溅射镀膜
和蒸发镀膜有什么区别?
答:
溅射过程建立在辉光放电的基础上,即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。
直流
二极溅射利用的是直流辉光放电;三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电;射频溅射是利用射频辉光放电;
磁控溅射
是利用环状磁场控制下的辉光放电。
溅射镀膜
与真空蒸发镀膜相比,有许多优点。如任何...
什么叫
磁控溅射
工艺
答:
磁控溅射的基本原理是利用 Ar一02混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下,被加速的高能粒子轰击靶材表面,能量交换后,靶材表面的原子脱离原晶格而逸出,转移到基体表面而成膜。 磁控溅射的
特点
是成膜速率高,基片温度低,膜的粘附性好,可实现大面积
镀膜
。该技术可以分为
直流磁控溅射
法和射频...
磁控溅射
技术的应用有哪些方面
答:
磁控溅射
技术在许多领域都有广泛的应用,包括:1. **半导体制造**:在半导体设备制造中,磁控溅射常常被用来沉积绝缘层、导电层和金属接触层。例如,可以通过磁控溅射来制备高k介电材料、金属栅极材料、层间介电材料等。2. **光学薄膜**:在光学元件制造中,磁控溅射可以用来制备高质量的抗反射膜、增...
磁控溅射镀膜
机的工作原理,有谁知道
答:
最终沉积在基片上。
磁控溅射
就是以磁场束缚和延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片,真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳极在同一电势。磁场与电场的交互作用使单个电子轨迹呈三维螺旋状,而不是仅仅在靶面圆周...
什么是中频
磁控溅射
答:
把阴极表面磁场扩展到接近工件表面,提高了溅射原子离化率。既保留
磁控溅射
的细腻又增强了表面光泽度。真空离子清洗机 2、电弧等离子体蒸发源性能可靠,在优化阴极及磁场结构
镀膜
时可在30A电流下工作,镀膜膜层和基底界面产生原子扩散,又具有离子束辅助沉积的
特点
。汽车镀膜设备 ...
棣栭〉
<涓婁竴椤
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
涓嬩竴椤
灏鹃〉
其他人还搜