33问答网
所有问题
当前搜索:
直流磁控溅射镀膜特点
射频溅射镀膜与
直流溅射镀膜
相比较有何
特点
答:
直流和射频是对加在靶上的电源所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面,射频是具有一定的频率(13.56MHz)间隔加在靶上的。详细解释只能去看书,没人会找本书来给你慢慢敲在这里。
直流磁控溅射
只能用导电的靶材(靶材表面在空气中或者溅射过程中不会形成绝缘层的靶材),并不局限于金属。...
磁控溅射
为什么具有"低温","高速"两大
特点
答:
这跟
磁控溅射
的“磁控”有关。磁控就是在二级溅射的基础上,在靶材周围形成磁场,在电场和磁场的作用下,束缚住电子,让电子做螺旋运动。电子是维持放电的重要因素。电子寿命增加,数量增多,不需要太高的功率就能完成自维持放电。这就是高速的原因,同样,不需要高能耗溅射的结果导致溅射过程中,内部温度...
利用
溅射
进行
镀膜
都会有哪些
特点
?具体的是什么?
答:
溅射镀膜
有多种方式。按电极结构分类,即根据电极结构、电极的相对位置及溅射镀膜的过程,可以分为
直流
二极溅射、直流三极溅射、直流四极溅射、
磁控溅射
、对向靶溅射、ECR溅射等。溅射镀膜种类及
特点
序号溅射方式溅射电源Ar气压/Pa特点 1二极溅射DC1-7kv,0.15-1.5mA/cm2 RF0.3-10kw1-10w/cm2 1...
利用
直流磁控溅射
Ni靶通氧镀出的膜是彩色的,为什麼?
答:
由于膜层的厚度不同,造成的干涉反射的光谱不同,形成不同的颜色。如同常见的肥皂泡、彩虹等。其原因是溅射不完全,不稳定造成的。如果是国内设备的话,很难解决。调整电压波动、真空室内的气场稳定及平衡。另外,膜层厚度改变较小的情况下效果不大。建议:在基片温度较低的情况下,通氧进行
溅射镀膜
。
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作原理是什么?
答:
磁控溅射可以分为以下几种类型:1.
直流磁控溅射
:直流磁控溅射是最基本的磁控溅射方式。其工作原理是,利用直流电源对靶材加正电压,产生离子轰击,同时在靶材表面施加磁场进行引导,使得离子轰击靶材表面时产生的原子或分子向衬底沉积。这种技术适合制备金属薄膜和多元化合物薄膜。2. 射频磁控溅射:射频磁控...
直流磁控溅射
和射频磁控溅射的区别到底是什么啊
答:
主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种:(1)
直流溅射
;(2)射频溅射;(3)
磁控溅射
;(4)反应溅射。另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积。 现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点。 直流溅射发展后期,人们在其...
浅谈
磁控溅射镀膜
的原理
答:
探索
磁控溅射镀膜
的奥秘:原理与应用 磁控溅射镀膜,即PVD(物理气相沉积)的瑰宝,是真空镀膜工艺的高端技术。其独特的原理和薄膜生长过程,如同一场精密的舞蹈,让我们深入了解一下。一、磁控溅射的魔法 想象一下,高能粒子,如电场驱动的正离子,如同箭矢般轰击着固体表面。这个过程中,表面原子和离子交换...
磁控溅射
技术的材料性能
答:
因此,溅射磁性材料时,一方面要求磁控靶的磁场要强一些,另一方面靶材也要制备的薄一些,以便磁力线能穿过靶材,在靶面上方产生磁控作用。磁控溅射设备一般根据所采用的电源的不同又可分为
直流溅射
和射频溅射两种。
直流磁控溅射
的
特点
是在阳极基片和阴极靶之间加一个直流电压,阳离子在电场的作用下轰击靶材,...
磁控溅射
技术工艺是怎样的?
答:
在ABS,PC,PBT,PE,PP,PA66等塑料基体上直接镀膜,不需喷底漆,也不需喷面漆(不需要投资喷涂设备),在镀完铝膜后直接镀一层保护膜。滴1%NaOH溶液10分钟铝层不腐蚀,去离子水中浸饱96小时铝层不脱落。
磁控溅射镀膜
设备及技术介绍a旋转磁控溅射镀膜机;旋转磁控溅射镀膜技术,是国内外最先进的磁控溅射...
求
磁控溅射
和多弧离子
镀膜
的资料和文摘
答:
1.
磁控溅射镀膜
技术由于其显著的
特点
已经得到广泛的应用。但是常规磁控溅射靶表面横向磁场紧紧地束缚带电粒子,使得一镀膜区域的离子密度很低,一定程度上削弱了等离子体膜的优势。通过有意识地增强或削弱其中一个磁极的磁通量。使得磁控溅射靶的磁场不平衡,可以大大提高镀区域的等离子体密度,从而改善镀膜...
<涓婁竴椤
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
涓嬩竴椤
灏鹃〉
其他人还搜
磁控溅射镀膜的产品
磁控溅射镀膜技术
磁控溅射镀膜注意事项
简述磁控溅射镀膜技术
磁控溅射镀膜设备
磁控溅射镀膜有毒吗
磁控溅射镀膜对样品的要求
真空磁控溅射镀膜原理
真空磁控溅射镀膜原理与技术