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磁控溅射直流电源
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作原理是什么?
答:
磁控溅射
可以分为以下几种类型:1. 直流磁控溅射:直流磁控溅射是最基本的磁控溅射方式。其工作原理是,利用
直流电源
对靶材加正电压,产生离子轰击,同时在靶材表面施加磁场进行引导,使得离子轰击靶材表面时产生的原子或分子向衬底沉积。这种技术适合制备金属薄膜和多元化合物薄膜。2. 射频磁控溅射:射频磁控...
直流磁控溅射
功率如何计算?电压电流直接相乘,还是跟面积神马的有关?高...
答:
电压电流直接相乘。另外,一般
直流磁控溅射
的
电源
散热量比较大,真正的使用效率只有40%,算是比较好的。国内最好的还是要属珠海的。用电总功率是指的接入电源之前的电压乘电流,外接功率表就好。实际功率为靶材的电压乘电流。并非显示数据。需要实际测量。
直流磁控溅射
和射频磁控溅射的区别到底是什么啊
答:
提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材中毒等现象。 而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料。沉积的膜层致密,附着力良好。 如果寻找本质区别是:
直流溅射
是气体放电的前期,而射频是后期,我们最常见的射频是电焊机。溅射过程所用设备的区别就是
电源
的区别。
求助 磁控溅射法有哪些种类?反应磁控溅射法是不是分为
直流磁控溅射
法和...
答:
放电区的有效电阻变小,电压下降。另外放电区集中在靶表面,放电区中的离子密度高,所以入射到靶表面的离子密度大大提高,因而溅射产额大大增加。磁场如果能够自闭和称为平衡
磁控溅射
,不能自闭和称为非平衡磁控溅射。
溅射电源
通常有下列几种,
直流电源
,射频电源,直流脉冲电源和中频电源。溅射电源频率区间为...
直流磁控溅射
,电压没问题,电流机会为零,是什么原因
答:
短路,或者无接通靶
直流磁控溅射电源
开机电流就有160A哪里出问题了?
答:
如果你的开机电流有这么高的话,是因为他
电源
压力太高了。
比较二极
直流
高频溅射 ,
磁控溅射
,反应性溅射的主要差别和范围 薄膜技 ...
答:
而由于二级直流溅射,电离溅射气体需要很高的电压,人们把磁铁置入靶材内部,在靶材表面形成磁场,这样,气体电离后的电子就会被束缚在靶材表面,做螺旋运动。这样,在较多电子轰击溅射气体分子,形成二次电子,有利于溅射气体的电离,形成溅射气体的自维持放电,这样的就叫做
磁控溅射
。而二级
直流溅射电源
,一般...
什么是
溅射
法
答:
交流
磁控溅射
和
直流溅射
相比交流磁控溅射采 用交流电源代替
直流电源
,解决了靶面的异常放电现象。交流溅射时,靶对真空室壁不是 恒定的负电压 , 而是周期一定的交流脉冲电压。设脉冲电压的周期为 T, 在负脉冲 T —△ T 时间间隔内,靶面处于放电状态,这一阶段和直流磁控溅射相似;靶面上的绝缘层不...
怎样通过低
溅射
电压制备ITO薄膜?工艺和方法是什么?
答:
可以通过合理的增强溅射阴极的磁场强度来实现.RF+DC电源使用对溅射电压的影响为了有效的降低
磁控溅射
的电压,以达到降低ITO薄膜电阻率的目的,可以采用了一套特殊的溅射阴极结构和
溅射直流电源
,同时将一套3KW的射频电源合理的匹配叠装在一套6KW的直流电源上,在不同的
直流溅射
功率和射频功率下进行降低ITO薄膜...
磁控溅射
靶材中毒是什么原因,有何现像?如何避免?
答:
现象:靶电压长时间不能达到正常,一直处于低电压运行状态,并伴有弧光放电;靶表面呈现白色附着物或密布针状灰色放电痕迹。若要彻底杜绝靶中毒,必须用中频电源或射频电源代替
直流电源
;减少反应气体的通入量、提高
溅射
功率,清理靶材上的污染物(特别是油污)、选用真空性能好的防尘灭弧罩等方法均可有效防止...
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