求助 磁控溅射法有哪些种类？反应磁控溅射法是不是分为直流磁控溅射法和交流磁控溅射法

Question

还有射频磁控溅射 非平衡磁控溅射

Answer 1

主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射。另外，利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积。
磁控溅射是在二极直流溅射的基础上，在靶表面附近增加一个磁场。电子由于受电场和磁场的作用，做螺旋运动，大大提高了电子的寿命，增加了电离产额，从而放电区的电离度提高，即离子和电子的密度增加。放电区的有效电阻变小，电压下降。另外放电区集中在靶表面，放电区中的离子密度高，所以入射到靶表面的离子密度大大提高，因而溅射产额大大增加。
磁场如果能够自闭和称为平衡磁控溅射，不能自闭和称为非平衡磁控溅射。
溅射电源通常有下列几种，直流电源，射频电源，直流脉冲电源和中频电源。溅射电源频率区间为5 ~ 30MHz的称为射频溅射。