三星V1工厂EUV极紫外光刻生产线已实现量产，技术水平令人瞩目：
三星的韩国华城市V1工厂已成功投入7nm 7LPP和6nm 6LPP工艺的量产，这标志着全球首个专为EUV极紫外光刻工艺设计的代工厂正式运营。7LPP和6LPP工艺主要应用于生产先进的移动SoC芯片，其中7LPP预计将成为对外代工的主力，而6LPP则可能更多用于三星内部或特定客户项目。
6LPP相较于7LPP在晶体管密度上提升约10%，并实现更低功耗，同时保持兼容性，使得原有基于7LPP设计的IP可以复用，降低了生产成本。
三星的工艺路线图中，不仅包括5LPE、4LPE和3GAE、3GAP等采用EUV技术的更高级别，其中5nm和4nm被视为7nm工艺的深化升级，而3nm则标志着全新的技术突破。
以高通最新发布的骁龙X60 5G基带为例，它就采用了三星的5nm工艺。而3nm工艺预计将在今年完成研发，三星将弃用传统的FinFET晶体管架构，展现其技术革新能力。
自2018年2月奠基以来，V1工厂经历了两年多的建设与试产，目前产能已显著提升，到今年年底，7LPP EUV和后续工艺的总产能将是2019年底的三倍，总投资更是达到了60亿美元的规模。