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什么是磁控溅射
磁控溅射
膜是
什么
意思?金属膜都是采用磁控溅射技术吗?
答:
磁控溅射
是一种物理气相沉积的方法,金属膜不一定都是采用磁控溅射技术的哦。首先可以是用化学法制备金属膜层,也可以用电镀法,物理法除了磁控溅射还可以用热蒸发和电子束蒸发的方式来镀金属膜层,望采纳~~
磁控溅射
有哪些种类?不同种类的工作原理是
什么
?
答:
磁控溅射
可以分为以下几种类型:1. 直流磁控溅射:直流磁控溅射是最基本的磁控溅射方式。其工作原理是,利用直流电源对靶材加正电压,产生离子轰击,同时在靶材表面施加磁场进行引导,使得离子轰击靶材表面时产生的原子或分子向衬底沉积。这种技术适合制备金属薄膜和多元化合物薄膜。2. 射频磁控溅射:射频磁控...
电镀与
磁控溅射
对比有
什么
优缺点?
答:
两者应用环境很不一样。
磁控溅射
是真空环境中镀膜,牢固性,致密性和均匀性都是很完美的。磁控溅射还可以镀光学膜。电镀之能镀金属吧。一个是化学过程,一个是物理过程。磁控溅射:磁控溅射(英语:magnetron sputtering)是在溅射的基础上,运用靶板材料自身的电场与磁场的相互电磁交互作用,在靶板附近...
什么是
直流
磁控溅射
,有什么区别呢?
答:
直流
磁控溅射
(DC Magnetron Sputtering)和射频磁控溅射(RF Magnetron Sputtering)都是物理气相沉积(PVD)技术的一种,用于在基材上沉积薄膜。它们的主要区别在于所使用的电源类型和适用的目标材料。电源类型:直流磁控溅射使用直流电源,而射频磁控溅射使用射频电源。目标材料:直流磁控溅射主要用于导电目标材料...
阴极溅射与
磁控溅射
又
什么
区别与联系
答:
磁控溅射
是阴极溅射的一种吧,是利用阴极溅射的原理进行镀膜。磁控溅射是在二极溅射的基础上,在靶材后面放置磁钢。在与靶阴极电场垂直的方向加一横向的磁场。靶面前的电子受到电磁场洛伦兹力的作用,在靶面附近做螺旋运动,增加碰撞几率。它克服了阴极溅射速率低和由于电子轰击使基片温度升高的致命弱点。
磁控溅射
膜是
什么
意思?金属膜都是采用磁控溅射技术吗?
答:
一、
磁控溅射
膜 1、磁控溅射隔热膜又称磁控溅射金属膜,采用多层磁控溅射工艺打造而成,以持久反射隔热的出色性能而著称。由于其高清晰、高隔热、高稳定、低内反光、色泽纯正、永不退色、使用寿命长等众多特点,一度被广泛用于汽车玻璃贴膜、建筑玻璃贴膜。2、磁控溅射技术在薄膜制造领域中的应用十分广泛,...
磁控溅射
膜 是
什么
意思 另外 是不是 金属膜都是采用磁控溅射技术的
答:
金属膜是采用
磁控溅射
技术的。磁控溅射膜 主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的...
直流
磁控溅射
和射频磁控溅射的区别到底是
什么
啊
答:
随着气体压力的升高,电子的平均自由程减小,原子的电离几率增加,溅射电流增加,溅射速率提高。但当气体压力过高时,溅射出来的靶材原子在飞向衬底的过程中将会受到过多的散射,部分溅射原子甚至会被散射至靶材表面沉积下来,因而其沉积在衬底上的几率反而下降。20世纪70年代开始发展了
磁控溅射
技术,它的特点是...
什么是
中频
磁控溅射
答:
广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。镀制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各类金属石膜(DLC)。卧式镀膜机1、
磁控溅射
的原理是基于阴极辉光放电理论,把阴极表面磁场扩展到接近工件表面,提高了溅射原子离化率。既保留磁控溅射的细腻又增强了表面光泽度。...
直流(DC)
磁控溅射
、中频(MF)磁控溅射、射频(RF)磁控溅射分别有
什么
特点...
答:
1.直流(DC)
磁控溅射
溅射与气压的关系 - 在一定范围内提高离化率(尽量小的压强下维持高的离化率)、提高均匀性要增加压强和保证薄膜纯度、提高薄膜附着力要减小压强的矛盾,产生一个平衡.辉光放电直流溅射系统 特点:提供一个额外的电子源,而不是从靶阴极获得电子.实现低压溅射(压强小于0.1帕).缺点:...
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