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    • 射频磁控溅射与直流磁控溅射在相同功率下溅射同样的靶材，溅射产额大概差多少？

    如题所述

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    其他回答
    第1个回答  2011-11-30
    大楷2-3倍。
    第2个回答  2011-11-29
    最好详细解释一下还有就是为什么直流磁控溅射只能用金属靶材？粘贴无效哈 1 直流和射频是对加在靶上的电源所说的。本质区别自然就在直流是持续不间断
    第3个回答  2012-04-29
    射频溅射出来的原子能量要强点，结合力好点，不过会比直流慢，但可以用非金属的靶材
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    直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别到底是什么啊答：射频溅射法由于可以将能量直接耦合给等离子体中的电子，因而其工作气压和对应的靶电压较低，其典型的数值为1.0Pa和1000V，靶电流密度约1.0mA/cm2，薄膜的沉积速率约为0.5mm/min。三者对比：二级溅射已经很少用了，磁控溅射应用非常广泛，而对于陶瓷靶材等非金属靶材，一般采用射频溅射。
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    直流磁控溅射与射频磁控溅射区别是什么?答：顾名思义，直流磁控溅射运用的是直流电源，射频磁控溅射运用的是交流电源（射频属于交流范畴，频率是13.56MHz。我们平常的生活中用电频率为50Hz）。两种方式的用途不太一样，直流磁控溅射一般用于导电型（如金属）靶材的溅射，射频一般用于非导电型（如陶瓷化合物）靶材的溅射。两种方式的不同应用 直流磁控...
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